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    A Comparative Study of Carrier Concentration Profiling Techniques in Silicon: Spreading Resistance and Electrochemical CV
    Pawlik, M ; Groves, RD ; et al.
    In: Emerging Semiconductor Technology, Jg. 1987 (1987), Heft 960, S. 558-572
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Lower-Bound Initiation Toughness with a Modified-Charpy Specimen
    Bonenberger, RJ ; Dally, JW ; et al.
    In: Constraint Effects in Fracture, Jg. 1993 (1993), Heft 1171, S. 139-157
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -