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    Accurate electrical activation characterization of CMOS ultra-shallow profiles : Material science issues in advanced CMOS source-drain engineering; EMRS 2004, Symposium B: material science issues in advanced CMOS source-drain engineering
    Clarysse, T. ; Dortu, F. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE-, Jg. 114-115 (2004), S. 166-173
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Advanced front-end processes for the 45nm CMOS technology node : Material science issues in advanced CMOS source-drain engineering; EMRS 2004, Symposium B: material science issues in advanced CMOS source-drain engineering
    Collart, E. J. ; Felch, S. B. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE-, Jg. 114-115 (2004), S. 118-129
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Ni based silicides for 45nm CMOS and beyond : Material science issues in advanced CMOS source-drain engineering; EMRS 2004, Symposium B: material science issues in advanced CMOS source-drain engineering
    Lauwers, A. ; Kittl, J. A. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE-, Jg. 114-115 (2004), S. 29-41
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    New physics mechanisms enabled by advanced SOI CMOS engineering : Material science issues in advanced CMOS source-drain engineering; EMRS 2004, Symposium B: material science issues in advanced CMOS source-drain engineering
    Cristoloveanu, S.
    In: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE-, Jg. 114-115 (2004), S. 9-14
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Automated defect inspection system for CMOS image sensor with micro multi-layer non-spherical lens module
    Jeffrey Kuo, Chung-Feng ; Lo, Wen-Chi ; et al.
    In: Journal of manufacturing systems, Jg. 45 (2017), S. 248-259
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Automated defect inspection system for CMOS image sensor with micro multi-layer non-spherical lens module
    Jeffrey Kuo, Chung-Feng ; Lo, Wen-Chi ; et al.
    In: Journal of manufacturing systems, Jg. 45 (2017), S. 248-259
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Nanoscale strain characterisation for ultimate CMOS and beyond : Beyond silicon technology: Materials and devices for post-si CMOS; E-MRS 2008 spring conference symposium J
    Olsen, S.H. ; Dobrosz, P. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, Jg. 11 (2008), Heft 5/6, S. 271-278
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Epitaxial anatase HfO~2 on high-mobility substrate for ultra-scaled CMOS devices : Beyond silicon technology: Materials and devices for post-si CMOS; E-MRS 2008 spring conference symposium J
    Debernardi, A. ; Wiemer, C. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, Jg. 11 (2008), Heft 5/6, S. 241-244
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The Ge condensation technique: A solution for planar SOI/GeOI co-integration for advanced CMOS technologies? : Beyond silicon technology: Materials and devices for post-si CMOS; E-MRS 2008 spring conference symposium J
    Vincent, B. ; Damlencourt, J.F. ; et al.
    In: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, Jg. 11 (2008), Heft 5/6, S. 205-213
    Konferenz
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    3-D stacked CMOS inverters using Pt/HfO2 on Si substrate for vertical integrated CMOS applications : International conference on micro and nano engineering
    Oh, S. Y. ; Ahn, C. G. ; et al.
    In: MICROELECTRONIC ENGINEERING, Jg. 85 (2008), Heft 5-6, S. 1206-1209
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    CMOS and post-CMOS on-chip microwave pulse power detectors : ISDRS 2005: international semiconductor device research symposium
    Jeon, W. ; Melngailis, J.
    In: SOLID STATE ELECTRONICS, Jg. 50 (2006), Heft 6, S. 951-958
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Glycated Hemoglobin Detection in Clinical Blood Samples by Using CMOS Poly-silicon Sub-micron Wire Biosensor
    Wang, I.-Shun ; Lin, Chih-Ting
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 121-124
    Online serialPeriodical
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CMOS Integrated Tungsten Oxide Nanowire Networks for ppb-level H2S Sensing
    Krainer, J. ; Deluca, M. ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 272-275
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    CMOS Integrated Nanocrystalline SnO2 Gas Sensors for CO Detection
    Lackner, E. ; Krainer, J. ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 297-300
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Characterization of 0.18-μm CMOS MEMS Capacitive Ultrasonic Sensors for Fast Photoacoustic Imaging
    Shih, Yi-Chia ; Lu, Michael S. C.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 713-716
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    A Compact CMOS Compatible micro-Pirani Vacuum Sensor with Wide Operating Range and Low Power Consumption
    Piotto, Massimo ; Del Cesta, Simone ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 766-769
    Online serialPeriodical
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Switch-matrix-based Monolithic CMOS Platform Featuring a Large Array of Carbon Nanotube Sensor Elements and a 96-channel Readout Circuitry
    Dudina, Alexandra ; Seichepine, Florent ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 916-919
    Online serialPeriodical
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A Low Cost Fully Integrable in a Standard CMOS Technology Portable System for the Assessment of Wind Conditions
    Fusacchia, P. ; Muttillo, M. ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 1024-1027
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    CMOS Integrated UV-Photodiodes
    Gäbler, Daniel ; Henkel, Christoph ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 1208-1213
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    Implementation of CMOS-compatible Metamaterial Absorber for gas Sensing Application
    Shahmarvandi, E. Karimi ; Ghaderi, M. ; et al.
    In: Procedia engineering, Jg. 168 (2016), S. 1241-1244
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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