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    Fine control of low-temperature CVD epitaxial growth.
    Loup, Virginie ; Hartmann, Jean-Michel ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-07-01), Heft 7, S. 91-96
    Online academicJournal
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    CVD chamber cleaning.
    Johnson, Andrew D. ; Entley, William R. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 103-108
    Online academicJournal
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    Safety and environmental concerns of CVD copper precursors.
    Zorich, Bob ; Majors, Mary
    In: Solid State Technology, Jg. 41 (1998-09-01), Heft 9, S. 101-104
    Online academicJournal
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    Integrated CVD titanium and titanium nitride processes for sub-0.5-mu metallization.
    Hillman, Joseph ; Foster, Robert
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-07-01), Heft 7, S. 147-150
    Online academicJournal
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    Next-generation CVD aluminum precursors pose new handling challenges.
    McGrew, Clark E.
    In: Solid State Technology, Jg. 40 (1997-06-01), Heft 6, S. 193-197
    Online academicJournal
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    HDP-CVD: Trying to lasso lightning. (cover story)
    Korczynski, Ed
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-04-01), Heft 4, S. 63-69
    Online academicJournal
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    Trends in void-free pre-metal CVD dielectrics.
    Vassiliev, V. Y. ; Sudijono, J. L. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 129-133
    Online academicJournal
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    Vapor delivery methods for CVD: An equipment selection guide.
    Sullivan, Laura A. ; Han, Bin
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-05-01), Heft 5, S. 91-96
    Online academicJournal
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    High-density plasma CVD and CMP for 0.25um intermetal...
    Pye, J.T. ; Fry, H.W.
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-12-01), Heft 12, S. 65-69
    Online academicJournal
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    The race is on: CVD and spin-on vie for the low-k dielectric market.
    Corbett, Michael A. ; Davis, John C.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-10-01), Heft 10, S. 40-42
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Etch and CVD process improvements via heated vacuum throttle valves.
    Goodman, Dan ; Pewsey, Shaun
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 80-82
    Online academicJournal
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    Helium reduction at pre-metal sub-atmospheric CVD.
    JAE HEE, KIM
    In: Solid State Technology, Jg. 59 (2016), Heft 1, S. 22-26
    Online academicJournal
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    For DRAM and logic: CVD low-k dielectric integration.
    Buchanan, Keith
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-06-01), Heft 6, S. 59-62
    Online academicJournal
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    Delivering new Liquid Metalorganic Precursors to Epi and CVD.
    WOELK, EGBERT ; LOO, ROGER
    In: Solid State Technology, Jg. 57 (2014-12-01), Heft 8, S. 37-40
    Online academicJournal
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    Implementation of CVD low-k dielectrics for high-volume production.
    Ruelke, Hartmut ; Huebler, Peter ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004), Heft 1, S. 60-63
    Online academicJournal
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    Sekisui and Chemitronics show nonvacuum plasma CVD equipment.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 48-49
    Online academicJournal
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    Low-energy plasma-enhanced CVD facilities high mobility SiGe.
    Demmin, Jeffrey C.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 30-31
    Online academicJournal
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    Practical in situ FTIR for CVD yields revised TEOS-O...model.
    Burggraaf, Pieter
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-03-01), Heft 3, S. 20-21
    Online academicJournal
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    Applied develops ARC using silane-based CVD.
    E.K.
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-07-01), Heft 7, S. 62-63
    Online academicJournal
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    Etch performance of Ar/N<subscript>2</subscript>/F<subscript>2</subscript> for CVD/ALD chamber clean. (cover story)
    Riva, M. ; Pittroff, M. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 52 (2009-02-01), Heft 2, S. 20-24
    Online academicJournal
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