Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
143 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Publikation

Sprache

Geographischer Bezug

143 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Depletion-Mode β -Ga 2 O 3 MOSFETs Grown by Nonvacuum, Cost-Effective Mist-CVD Method on Fe-Doped GaN Substrates.
    Xu, Yu ; Zhang, Chunfu ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 69 (2022-03-01), Heft 3, S. 1196-1199
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    All CVD Boron Nitride Encapsulated Graphene FETs With CMOS Compatible Metal Edge Contacts.
    Pandey, Himadri ; Shaygan, Mehrdad ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 65 (2018-10-01), Heft 10, S. 4129-4134
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Effect of Antenna-Substrate Distance on Quality of a-Si:H During ICP CVD Using a Flat Spiral Antenna.
    Karar, Partha ; Kumar, Gourav ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 49 (2021-02-01), Heft 2, S. 624-631
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Replacement of Waveguides by a Resonant Cavity in a Microwave CVD Reactor.
    Isoldi, Mauricio ; Ozono, Edson Moriyoshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 49 (2021-09-15), Heft 9, Part 2, S. 2718-2721
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Thermal Management of High-Power Switching Transistors Using Thick CVD-Grown Graphene Nanomaterial.
    Talesara, Vishank ; Garman, Paul. D. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Power Electronics, Jg. 35 (2020), Heft 1, S. 578-590
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Pulsed-DC Discharge for Plasma CVD of Carbon Thin Films.
    Mamun, Md Abdullah Al ; Furuta, Hiroshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 47 (2019), Heft 1, S. 22-31
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Fluorine Effects Originating From the CVD-W Process on Charge-Trap Flash Memory Cells.
    Moon, Jungmin ; Lee, Tae Yoon ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 66 (2019), Heft 1, S. 378-382
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Influence of Deposition Temperature and Source Gas in PE-CVD for SiO2 Passivation on Performance and Reliability of In–Ga–Zn–O Thin-Film Transistors.
    Aman, S. G. Mehadi ; Koretomo, Daichi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 65 (2018-08-01), Heft 8, S. 3257-3263
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Process Optimization and Modeling of the Silicon Growth in Trichlorosilane-Hydrogen Gas Mixture in a Planetary CVD Reactor.
    Ramadan, Zaher ; Im, Ik-Tae ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-02-01), Heft 1, S. 1-8
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Modeling of Epitaxial Silicon Growth From the DCS-H2-HCl System in a Large Scale CVD Reactor.
    Ramadan, Zaher ; Abdelmotalib, Hamada Mohamed ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 31 (2018-08-01), Heft 3, S. 363-370
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    CVD Technology for 2-D Materials.
    Shen, Pin-Chun ; Lin, Yuxuan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 65 (2018-10-01), Heft 10, S. 4040-4052
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Direct current bias effects in RF induction thermal plasma diamond CVD.
    Berghaus, Jörg Oberste ; Meunier, Jean-Luc ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 30 (2002-02-03), Heft 1, S. 442-449
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Diamondpix: A CVD Diamond Detector With Timepix3 Chip Interface.
    Claps, G. ; Murtas, F. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 65 (2018-10-01), Heft 10, S. 2743-2753
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Low-Temperature ICP-CVD SiNx as Gate Dielectric for GaN-Based MIS-HEMTs.
    Dutta, Gourab ; DasGupta, Nandita ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 63 (2016-12-01), Heft 12, S. 4693-4701
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Enhancement-Mode A1N/GaN HFETs Using Cat-CVD SiN.
    Higashiwaki, Masataka ; Mimura, Takashi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 54 (2007-06-01), Heft 6, S. 1566-1570
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Control of Plasma-Dielectric Boundary Sheath Potential for the Synthesis of Carbon Nanomaterials in Surface Wave Plasma CVD.
    Kim, Jaeho ; Ohsaki, Hiroyuki ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 43 (2015-01-03), Heft 1, S. 480-484
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Copper Thin Films on PET Prepared at Ambient Temperature by ECR-CVD.
    Ko, Hyungduk ; Jhin, Junggeun ; et al.
    In: IEEE Transactions on Components & Packaging Technologies, Jg. 28 (2005-12-01), Heft 4, S. 781-784
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Evolution of Surface Morphology With Hydrogen Dilution During Silicon Epitaxy by Mesoplasma CVD.
    Diaz, Jose Mario A. ; Kambara, Makoto ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 37 (2009-09-01), Heft 9, S. 1723-1729
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    HDP-CVD STI Oxide Process With in situ Post deposition Laterally Enhanced Sputter Etchback for the Reduction of Pattern-Dependent Film Topography in Deep Submicron Technologies.
    Abdelgadir, Mahjoub Ali
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), Heft 1, S. 130-137
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    High Effective Gummel Number of CVD Boron Layers in Ultrashallow p<superscript>+</superscript>n Diode Configurations.
    Sarubbi, Francesco ; Nanver, Lis K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 57 (2010-06-01), Heft 6, S. 1269-1278
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -