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    Battery-Less Electronic Layer Detectors Array (ELDA) for In-Tool DUV Detection by FinFET CMOS Technology.
    Wang, Chien-Ping ; Lin, Wei-Hwa ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 68 (2021-10-01), Heft 10, S. 4972-4976
    Online academicJournal
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    The Diversity-Uncertainty-Valence (DUV) model of generalized trust development.
    Cao, Jiyin ; Galinsky, Adam D.
    In: Organizational Behavior & Human Decision Processes, Jg. 161 (2020-11-01), S. 49-64
    academicJournal
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    Purged gas purification for contamination control of DUV stepper lenses.
    Barzaghi, Serena ; Pilenga, Alberto ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-09-01), Heft 9, S. 99-102
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Improve yields, enhance CDs with integrated DUV resist track. (cover story)
    Krishna, Murthy
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-10-01), Heft 10, S. 135-139
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Self-Aligned Coplanar Top Gate In–Ga–ZnO Thin-Film Transistors Exposed to Various DUV Irradiation Energies.
    Ryu, Seung-Man ; Kim, Myoeng-Ho ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 63 (2016-08-01), Heft 8, S. 3123-3127
    Online academicJournal
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    Dielectric antireflective coatings for DUV lithography.
    Bencher, Christopher ; Ngai, Chris
    In: Solid State Technology, Jg. 40 (1997-03-01), Heft 3, S. 109-112
    Online academicJournal
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    SPIE Microlithography Symposium '96: DUV resists and steppers show maturity.
    Levenson, M. David ; Dunn, Peter N.
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-06-01), Heft 6, S. 205-209
    Online academicJournal
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    The impact of airborne molecular bases on DUV photoresists.
    Ruede, David ; Ereken, Monique ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-08-01), Heft 8, S. 63-67
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Tracking down causes of DUV sub-pellicle defects.
    Grenon, Brian J. ; Peters, Charles R. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-06-01), Heft 6, S. 159-164
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    ASML: DUV lithography matures for production.
    George, Richard ; Wittekoek, Steef
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-09-01), Heft 9, S. 82-84
    Online academicJournal
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    Nikon: Bringing DUV lithography into the mainstream.
    Dickinson, Allan
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-09-01), Heft 9, S. 92-94
    Online academicJournal
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    Surface-Charge-Collection-Enhanced High-Sensitivity High-Stability Silicon Photodiodes for DUV and VUV Spectral Ranges.
    Shi, L. ; Nihtianov, S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 59 (2012-11-01), Heft 11, S. 2888-2894
    Online academicJournal
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    Advanced DUV photolithography in a pilot line environment.
    Ausschnitt, Christopher P. ; Thomas, Allan C.
    In: IBM Journal of Research & Development, Jg. 41 (1997), Heft 1/2, S. 21-37
    Online academicJournal
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    Manufacturing with DUV lithography.
    Holmes, Steven J. ; Mitchell, Peter H.
    In: IBM Journal of Research & Development, Jg. 41 (1997), Heft 1/2, S. 7-19
    Online academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    SVGL: Scanning the lithography roadmap for DUV and beyond.
    Shamaly, John J.
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-09-01), Heft 9, S. 96-97
    Online academicJournal
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    Membrane compatibility for nanofiltration applications in DUV lithography.
    Zhang, Haizheng ; Ayubali, Mufadal ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 51 (2008-02-01), Heft 2, S. 42-46
    Online academicJournal
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    Photostabilization: Comparing DUV and i-line.
    Mohondro, Robert
    In: Solid State Technology, Jg. 46 (2003-02-01), Heft 2, S. 69-72
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    DUV PEB process.
    Cohen, Barney ; Sun, Mei
    In: Solid State Technology, Jg. 46 (2003), Heft 1, S. 51-54
    Online academicJournal
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    An In-Situ-Temperature Measurement System for DUV Lithography.
    Woei Wan Tan ; Li, Reginald F. Y.
    In: IEEE Transactions on Instrumentation & Measurement, Jg. 52 (2003-08-01), Heft 4, S. 1136-1142
    Online academicJournal
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    Using laser ellipsometry and DUV reflectometry for SiON arc materials.
    Jiang, Gary ; Sun, Timothy ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-06-01), Heft 6, S. 41-43
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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