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    CMOS-Compatible Memristor for Optoelectronic Neuromorphic Computing.
    Wu, F ; Chou, CH ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 17 (2022-11-07), Heft 1, S. 105
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    Embedded Micro-detectors for EUV Exposure Control in FinFET CMOS Technology.
    Wang, CP ; Lin, BJ ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 17 (2022-01-05), Heft 1, S. 5
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    Detectors Array for In Situ Electron Beam Imaging by 16-nm FinFET CMOS Technology.
    Wang, CP ; Lin, BJ ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 16 (2021-05-25), Heft 1, S. 93
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    Wide range detector of plasma induced charging effect for advanced CMOS BEOL processes.
    Chao, YJ ; Yang, KW ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 16 (2021-07-03), Heft 1, S. 112
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    Robust and Latch-Up-Immune LVTSCR Device with an Embedded PMOSFET for ESD Protection in a 28-nm CMOS Process.
    Chen, R ; Liu, H ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 15 (2020-11-11), Heft 1, S. 212
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    CMOS-Compatible Fabrication for Photonic Crystal-Based Nanofluidic Structure.
    Peng, W ; Chen, Y ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 12 (2017-12-01), Heft 1, S. 103
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    A RRAM Integrated 4T SRAM with Self-Inhibit Resistive Switching Load by Pure CMOS Logic Process.
    Hsu, MY ; Liao, CF ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 12 (2017-12-01), Heft 1, S. 418
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    Surface-modified CMOS IC electrochemical sensor array targeting single chromaffin cells for highly parallel amperometry measurements.
    Huang, M ; Delacruz, JB ; et al.
    In: Pflugers Archiv : European journal of physiology, Jg. 470 (2018), Heft 1, S. 113-123
    Online academicJournal
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    pMOSFETs Featuring ALD W Filling Metal Using SiH <subscript>4</subscript> and B <subscript>2</subscript> H <subscript>6</subscript> Precursors in 22 nm Node CMOS Technology.
    Wang, G ; Luo, J ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 12 (2017-12-01), Heft 1, S. 306
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    In Situ Analysis of Oxygen Vacancies and Band Alignment in HfO <subscript>2</subscript> /TiN Structure for CMOS Applications.
    Xu, DP ; Yu, LJ ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 12 (2017-12-01), Heft 1, S. 311
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    Real-time DNA Amplification and Detection System Based on a CMOS Image Sensor.
    Wang, T ; Devadhasan, JP ; et al.
    In: Analytical sciences : the international journal of the Japan Society for Analytical Chemistry, Jg. 32 (2016), Heft 6, S. 653-8
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    CMOS-Compatible Top-Down Fabrication of Periodic SiO2 Nanostructures using a Single Mask.
    Meng, L ; Gao, J ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 10 (2015-12-01), Heft 1, S. 1046
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    Small-area and compact CMOS emulator circuit for CMOS/nanoscale memristor co-design.
    Shin, S ; Choi, JM ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 8 (2013-11-01), Heft 1, S. 454
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    CMOS-compatible metal-stabilized nanostructured Si as anodes for lithium-ion microbatteries.
    Lee, G ; Schweizer, SL ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 9 (2014-11-14), Heft 1, S. 613
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    Ultrahigh sensitivity endoscopic camera using a new CMOS image sensor: providing with clear images under low illumination in addition to fluorescent images.
    Aoki, H ; Yamashita, H ; et al.
    In: Surgical endoscopy, Jg. 28 (2014-11-01), Heft 11, S. 3240-8
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    CMOS image sensor-based immunodetection by refractive-index change.
    Devadhasan, JP ; Kim, S
    In: Analytical sciences : the international journal of the Japan Society for Analytical Chemistry, Jg. 28 (2012), Heft 9, S. 875-80
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    Ge quantum dot arrays grown by ultrahigh vacuum molecular-beam epitaxy on the Si(001) surface: nucleation, morphology, and CMOS compatibility.
    Yuryev, VA ; Arapkina, LV
    In: Nanoscale research letters, Jg. 6 (2011-09-05), S. 522
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    Fabrication of HfO2 patterns by laser interference nanolithography and selective dry etching for III-V CMOS application.
    Benedicto, M ; Galiana, B ; et al.
    In: Nanoscale research letters, Jg. 6 (2011-05-31), Heft 1, S. 400
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    CMOS-compatible dense arrays of Ge quantum dots on the Si(001) surface: hut cluster nucleation, atomic structure and array life cycle during UHV MBE growth.
    Arapkina, LV ; Yuryev, VA
    In: Nanoscale research letters, Jg. 6 (2011-04-15), Heft 1, S. 345
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    Conformal metric optimization on surface (CMOS) for deformation and mapping in Laplace-Beltrami embedding space.
    Shi, Y ; Lai, R ; et al.
    In: Medical image computing and computer-assisted intervention : MICCAI ... International Conference on Medical Image Computing and Computer-Assisted Intervention, Jg. 14 (2011), Heft Pt 2, S. 327-34
    academicJournal
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