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    Effect of Background Pressure on Deposition Rate and Crystallinity of Deposited Silicon in Non-Equilibrium Plasma Jet CVD / 非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度，膜質におよぼす影響
    Muta, Hiroshi ; Nodo, Ryo ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 41 (2015-03-20), Heft 2, S. 148
    academicJournal
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    High Temperature Propylene Permselective Membrane Prepared by Counter Diffusion CVD / 対向拡散CVD法による高温プロピレン透過膜の開発
    Ikeda, Ayumi ; Matsuyama, Emi ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 39 (2013-07-20), Heft 4, S. 301
    academicJournal
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    Pervaporation Separation of Benzene/Cyclohexane through Silica Hybrid Membranes Prepared by Using a Counter-Diffusion CVD Method / 対向拡散CVD法により作製したシリカ複合膜のベンゼン／シクロヘキサン浸透気化分離
    Matsuyama, Emi ; Utsumi, Keisuke ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 39 (2013-03-20), Heft 2, S. 98
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD Synthesis of Supported Molybdenum Carbide Catalyst and its Catalytic Activity for CO2 Hydrogenation / CVD法による担持炭化モリブデン触媒の調製とCO2水素化活性
    Shishikura, Isao ; Matsuoka, Masakuni ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 21 (1995-12-10), Heft 6, S. 1015
    academicJournal
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    Fluid Flow Model in a Vertical Multiwafer Stacked-in-Tube CVD Reactor Application of simple fluid-flow model / 垂直多葉式CVD装置における流体モデル
    Mishima, Keiji ; Inaba, Kouichi ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 17 (1991-07-10), Heft 4, S. 898
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Mass Transfer Phenomenon in Vertical Multicomponent CVD Reactor / 垂直多葉式熱CVD装置内の物質移動現象
    Kato, Kunio ; Takarada, Takayuki ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 16 (1990-05-10), Heft 3, S. 597
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Simulations of Gas Flow and Mass Transfer with Chemical Reaction in a Horizontal Cold-Wall CVD Reactor / 水平型CVD装置内における流動ならびに物質移動
    Imaishi, Nobuyuki ; Uasa, Takenori ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 17 (1991-03-10), Heft 2, S. 362
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Heat Transfer and Thermal Diffusion Phenomena in a Horizontal Cold-Wall CVD Reactor / 水平コールドウォール型 CVD 装置の熱流動特性および熱拡散現象
    Tanoue, Ken-ichirou ; Imaishi, Nobuyuki ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 22 (1996-01-10), Heft 1, S. 140
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Average Mass Transfer Coefficient in the Disk-Type CVD Reactor / ディスク型CVD装置内での平均物質移動係数
    Kato, Kunio ; Mayuzumi, Masanori ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 15 (1989-07-10), Heft 4, S. 832
    academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Selection of CVD Precursors for Improving High-Temperature Stability of Porous Silica Membrane for Hydrogen Separation / シリカ系多孔質水素分離膜の高温耐久性向上のためのCVD原料の選択
    Taguchi, Hisatomi ; Itoh, Naotsugu ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 34 (2008-03-20), Heft 2, S. 242
    academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Transparent Conductive ZnO Thin Films Prepared by Plasma Enhanced CVD / プラズマCVD法によるZnO透明導電薄膜
    KAZUO, KONDO ; KEIZO, ISHIYAMA ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 25 (1999-05-10), Heft 3, S. 485
    academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Transparent Conductive ZnO Thin Films Prepared by Plasma Enhanced CVD-Effect of Boron Dopant / プラズマCVD法によるZnO透明導電薄膜-ホウ素ドーパントの影響
    KAZUO, KONDO ; KEISUKE, ISHIYAMA ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 26 (2000-03-10), Heft 2, S. 309
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Oxidation Behavior of the C/C Composite Coated by CVD-SiC in the N2, CO2 and H2O Mixture Gas / メタン燃焼雰囲気におけるCVD-SiC被覆したC/C材の酸化挙動
    AKIHIKO, OTSUKA ; HIROKI, MASUMOTO ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 26 (2000-03-10), Heft 2, S. 151
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Transparent Conductive ZnO Thin Films Prepared by Plasma-enhanced CVD : Effect of Aluminum Dopant / プラズマCVD法によるZnO透明導電薄膜
    Ohgishi, Atsufumi ; Kondo, Kazuo ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 27 (2001-03-20), Heft 2, S. 282
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Modeling of Hot Wall Type CVD Reactor for Prototype Design / 概要設計を目的とした基板加熱型CVD反応器のモデル化
    HIROSHI, KOMIYAMA ; KOUZI, OHKI ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 26 (2000-11-10), Heft 6, S. 798
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度,膜質におよぼす影響
    哲, 西田 ; 亮, 納土 ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 41 (2015), Heft 1・2, S. 148-152
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    CVD法による窒化タンタル薄膜の合成とその析出機構
    Preparation and Deposition Mechanism of Tantalum Nitride Films by CVD
    In: 化学工学論文集, Jg. 16 (1990-05-10), Heft 3, S. 430
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    CVDに及ぼす気相および表面反応の影響に関する一考察 / The Effects of Gas Phase and Surface Chemical Reactions on Film Growth Rate in a Tubular CVD Reactor
    Imaishi, Nobuyuki ; Sato, Tsuneyuki ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 16 (1990-05-10), Heft 3, S. 483
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Effect of Additives on Oxygen Removal for AIN Fine Particles Synthesised by Surface Corona Discharge-CVD / 沿面コロナ放電CVDで合成したAIN微粒子中の不純物酸素の熱処理除去における添加剤効果
    Kondo, Kazuo ; Harima, Kazuyuki ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 21 (1995-05-10), Heft 3, S. 424
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Effect of Double-Pipe Nozzle on Iocal Mass Transfer Coefficient in the Disk-Type CVD Reactor / ディスク型CVD装置における局所物質移動係数に及ぼす二重管式ノズルの効果
    Kato, Kunio ; Mayuzumi, Masanori ; et al.
    In: 化学工学論文集, Jg. 15 (1989-07-10), Heft 4, S. 837
    academicJournal
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