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    RFプラズマCVD法によるSiCN薄膜堆積の低温化に関する研究
    正彦, 熊懐 ; 正樹, 吉野 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 134 (2014-10-01), Heft 10, S. 538-544
    academicJournal
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    RFプラズマCVD法によるSiCN薄膜堆積の低温化に関する研究
    正彦, 熊懐 ; 正樹, 吉野 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 134 (2014-10-01), Heft 10, S. 538-544
    academicJournal
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    RFプラズマCVD法による窒化ホウ素膜の堆積
    拓朗, 稲尾 ; 正彦, 熊懐 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 134 (2014-06-01), Heft 6, S. 397-401
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    RFプラズマCVD法による窒化ホウ素膜の堆積
    拓朗, 稲尾 ; 正彦, 熊懐 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 134 (2014-06-01), Heft 6, S. 397-401
    academicJournal
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    中間気圧マイクロ波プラズマCVDの最新動向--ダイヤモンドからナノカーボンへの展開
    君元, 堤井
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 131 (2011), Heft 1, S. 11-15
    academicJournal
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    中間気圧マイクロ波プラズマCVDの最新動向--ダイヤモンドからナノカーボンへの展開
    君元, 堤井
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 131 (2011), Heft 1, S. 11-15
    academicJournal
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    マイクロストリップ線路を用いた大気圧CVD用マイクロ波励起吹き出しプラズマ
    載浩, 金 ; ドンミン, キム ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 130 (2010-10-01), Heft 10, S. 913-918
    academicJournal
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    マイクロストリップ線路を用いた大気圧CVD用マイクロ波励起吹き出しプラズマ
    載浩, 金 ; ドンミン, キム ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 130 (2010-10-01), Heft 10, S. 913-918
    academicJournal
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    C8F18プラズマCVDによる非晶質フッ化炭素低誘電率絶縁膜の波状構造積層堆積
    巧一朗, 水野 ; 広剛, 菅原 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 130 (2010-04-01), Heft 4, S. 319-324
    academicJournal
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    C8F18プラズマCVDによる非晶質フッ化炭素低誘電率絶縁膜の波状構造積層堆積
    巧一朗, 水野 ; 広剛, 菅原 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 130 (2010-04-01), Heft 4, S. 319-324
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    プラズマCVDによるa-Sin:H堆積におけるラジカルの実効付着係数の測定
    伸二, 藤掛 ; 政隆, 成田 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 125 (2005-06-01), Heft 6, S. 561-566
    Online academicJournal
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    プラズマCVDによるa-Sin:H堆積におけるラジカルの実効付着係数の測定
    伸二, 藤掛 ; 政隆, 成田 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 125 (2005-06-01), Heft 6, S. 561-566
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    RFプラズマCVD法により堆積したSiC膜の評価
    敦, 佐々木 ; 裕司, 庭本 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 125 (2005-02-01), Heft 2, S. 133-137
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    RFプラズマCVD法により堆積したSiC膜の評価
    敦, 佐々木 ; 裕司, 庭本 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 125 (2005-02-01), Heft 2, S. 133-137
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    プラズマCVDによるa-Si系薄膜製膜時のイオン衝撃の影響
    伸二, 藤掛 ; 章弘, 高野 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 124 (2004-09-01), Heft 9, S. 837-843
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    プラズマCVDによるa-Si系薄膜製膜時のイオン衝撃の影響
    伸二, 藤掛 ; 章弘, 高野 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 124 (2004-09-01), Heft 9, S. 837-843
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    プラズマCVDによるa-SiGe:H薄膜堆積に関する巨視的解析
    幸美, 市川
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 121 (2001), Heft 1, S. 52-58
    Online academicJournal
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    プラズマCVDによるa-SiGe:H薄膜堆積に関する巨視的解析
    幸美, 市川
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 121 (2001), Heft 1, S. 52-58
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    プラズマCVD法による希土類添加シリカ薄膜--成膜法の開発と発光の物性研究への応用
    茂之, 四元 ; 真吾, 酒井 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 119 (1999), Heft 1, S. 113-117
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    プラズマCVD法によるa-SiGe膜の物性と製膜時のプラズマ特性
    敏明, 佐々木 ; 幸美, 市川 ; et al.
    In: 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials, Jg. 120 (2000-10-01), Heft 10, S. 936-942
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