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    Passivation issues in active pixel CMOS image sensors
    REGOLINI, J. L ; BENOIT, D ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 739-742
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Channel hot carrier effects in n-MOSFET devices of advanced submicron CMOS technologies
    LA ROSA, Giuseppe ; RAUCH, Stewart E
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 552-558
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Optimization of HfSiON using a design of experiment (DOE) approach on 0.45 V Vt Ni-FUSI CMOS transistors
    ROTHSCHILD, A ; MITSUHASHI, R ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 521-524
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Gate oxide breakdown in FET devices and circuits: From nanoscale physics to system-level reliability
    KACZER, B ; DEGRAEVE, R ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 559-566
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Study of nanocrystal memory integration in a Flash-like NOR device
    GERARDI, Cosimo ; LOMBARDO, Salvatore ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 593-597
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Reliability screening of high-k dielectrics based on voltage ramp stress
    KERBER, A ; PANTISANO, L ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 513-517
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Impact of Al-, Ni-, TiN-, and Mo-metal gates on MOCVD-grown HfO2 and ZrO2 high-k dielectrics
    ABERMANN, S ; EFAVI, J ; et al.
    In: 14TH Workshop on dielectrics in microelectronics (WoDiM 2006), Jg. 47 (2007), Heft 4-5, S. 536-539
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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