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    Flexible, simplified CMOS on Si(110) with metal gate / high k for HP and LSTP
    Harris, H. R. ; Thompson, S. E. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 57
    Konferenz
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    A New Self-Aligned Nitride MTP Cell with 45nm CMOS Fully Compatible Process
    Huang, Chia-En ; Chen, Hsin-Ming ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 91
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    45nm Gateless Anti-Fuse Cell with CMOS Fully Compatible Process
    Tsai, Yi-Hung ; Chen, Hsin-Ming ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 95
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A highly scaled, high performance 45 nm bulk logic CMOS technology with 0.242 μm2 SRAM cell
    Cheng, Kuan-Lun ; Wu, C. C. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 243
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Practical dual-metal-gate dual-high-k CMOS integration technology for hp 32 nm LSTP utilizing process-friendly TiAlN metal gate
    Kadoshima, M. ; Matsuki, T. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 531
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Rapid Circuit-based Optimization of Low Operational Power CMOS Devices
    Christie, P. ; Nackaerts, A. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 573
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Leakage Reduction in Sub-100nm CMOS Technologies: Bridging the Gap Between Technology, Circuit Design and Low Power Product Requirements
    Pacha, Christian ; Berthold, Jorg
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 645
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Materials Science-based Device Performance Engineering for Metal Gate High-k CMOS
    Toriumi, A. ; Kita, K. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 53
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Junction Profile Engineering with a Novel Multiple Laser Spike Annealing Scheme for 45-nm Node High Performance and Low Leakage CMOS Technology
    Yamamoto, T. ; Kubo, T. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 143
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    High-Performance 45nm node CMOS Transistors Featuring Flash Lamp Annealing (FLA)
    Sanuki, T. ; Iwamoto, T. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 281
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    High-Performance and Low-Power Bulk Logic Platform Utilizing FET Specific Multiple-Stressors with Highly Enhanced Strain and Full-Porous Low-k Interconnects for 45-nm CMOS Technology
    Miyashita, T. ; Ikeda, K. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 251
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Record RF performance of 45-nm SOI CMOS Technology
    Lee, Sungjae ; Jagannathan, Basanth ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 255
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    45nm High-k/Metal-Gate CMOS Technology for GPU/NPU Applications with Highest PFET Performance
    Huang, H.T. ; Liu, Y.C. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 285
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    45nm SOI CMOS Technology with 3X hole mobility enhancement and Asymmetric transistor for high performance CPU application
    Fung, Samuel K.H. ; Lo, H.C. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 1035
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Impact of flash annealing on performance and reliability of high-κ/metal-gate MOSFETs for sub-45 nm CMOS
    Kalra, Pankaj ; Majhi, Prashant ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 353
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    High Performance CMOS Variability in the 65nm Regime and Beyond
    Nassif, Sani ; Bernstein, Kerry ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 569
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    A 0.5 μm pixel frame-transfer CCD image sensor in 110 nm CMOS
    Fife, Keith ; El Gamal, Abbas ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 1003
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Three technologies for a smart miniaturized gas-sensor: SOI CMOS, micromachining, and CNTs - challenges and performance
    Udrea, F. ; Maeng, S. ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 831
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    New Self-Aligned Silicon Nanowire Transistors on Bulk Substrate Fabricated by Epi-Free Compatible CMOS Technology: Process Integration, Experimental Characterization of Carrier Transport and Low Frequency noise
    Tian, Yu ; Huang, Ru ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 895
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Development of a Production-Ready, Back-Illuminated CMOS Image Sensor with Small Pixels
    Joy, Tom ; Pyo, Sunggyu ; et al.
    In: 2007 IEEE International Electron Devices Meeting, 2007-12-01, S. 1007
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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