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    Chemical Vapor Deposition: An Eco‐Friendly, CMOS‐Compatible Transfer Process for Large‐Scale CVD‐Graphene (Adv. Mater. Interfaces 13/2019)
    Whang, Dongmok ; Moon, Ji-Yun ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 6 (2019-07-01), S. 1970087-1970087
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    An Eco‐Friendly, CMOS‐Compatible Transfer Process for Large‐Scale CVD‐Graphene
    Kim, Seung‐Il ; Son, Seok-Kyun ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 6 (2019-04-15), S. 1900084-1900084
    Online unknown
    Zugriff:
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  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    CMOS-Compatible Controlled Hyperdoping of Silicon Nanowires
    Zhou, Shengqiang ; Böttger, Roman ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 5 (2018-03-26), S. 1800101-1800101
    Online unknown
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Tailoring c ‐Axis Orientation in Epitaxial Ruddlesden–Popper Pr 0.5 Ca 1.5 MnO 4 Films
    Kressdorf, Birte ; Hoffmann-Urlaub, Sarah ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 8 (2021-02-25), S. 2002049-2002049
    Online unknown
    Zugriff:
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Island Coalescence during Film Growth: An Underestimated Limitation of Cu ALD
    Connolly, James ; Rushworth, S.A. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 4 (2017-05-31), S. 1700274-1700274
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Two-Dimensional Mott Insulators in SrVO3Ultrathin Films
    Lu, Jiwei ; Wolf, Stuart A. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 1 (2014-06-06), S. 1300126-1300126
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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