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    3D nanofabrication using controlled-acceleration-voltage electron beam lithography with nanoimprinting technology
    Unnohor, Noriyuki ; Taniguchihor, Jun
    In: Advanced Optical Technologies, Jg. 8 (2020-02-01), Heft 3-4, S. 253-266
    Online Elektronische Ressource
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    Single-digit 6-nm multilevel patterns by electron beam grayscale lithography
    Kirchnerhor, Robert ; Guzenkohor, Vitaliy A. ; et al.
    In: Advanced Optical Technologies, Jg. 8 (2020-02-01), Heft 3-4, S. 175-180
    Online Elektronische Ressource
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    Determination of refractive index and thickness of YbF3 thin films deposited at different bias voltages of APS ion source from spectrophotometric methods
    Zhanghor, Yinhua ; Xionghor, Shengming ; et al.
    In: Advanced Optical Technologies, Jg. 7 (2019-03-25), Heft 1-2, S. 33-37
    Online Elektronische Ressource
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    Large area nanoimprint by substrate conformal imprint lithography (SCIL)
    Verschuurenhor, Marc A. ; Megenshor, Mischa ; et al.
    In: Advanced Optical Technologies, Jg. 6 (2018-03-29), Heft 3-4, S. 243-264
    Online Elektronische Ressource
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    A review of nanoimprint lithography for high-volume semiconductor device manufacturing
    Resnickhor, Douglas J. ; Choihor, Jin
    In: Advanced Optical Technologies, Jg. 6 (2018-03-29), Heft 3-4, S. 229-241
    Online Elektronische Ressource
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