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    Low temperature fabrication of 5–10nm SiO<subscript>2</subscript>/Si structure using advanced nitric acid oxidation of silicon (NAOS) method
    Fukaya, Yousuke ; Yanase, Takashi ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 256 (2010-07-01), Heft 18, S. 5610-5613
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Dependence of SiO<subscript>2</subscript>/Si interface structure on low-temperature oxidation process
    Hattori, T. ; Azuma, K. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 234 (2004-07-15), Heft 1-4, S. 197-201
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A new era of crystallization: advances in polysilicon crystallization and crystal engineering
    Voutsas, A.T.
    In: Applied Surface Science, Jg. 208/209 (2003-03-15), S. 250-262
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -