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    Enhanced graphitization of c-CVD grown multi-wall carbon nanotube arrays assisted by removal of encapsulated iron-based phases under thermal treatment in argon : Semiconductor surface passivation
    Boncel, S. ; Koziol, K. K. K.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 301 (2014), S. 488-491
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Titanium and aluminum nitride synthesis via layer by layer LA-CVD : Photo-excited processes and applications; Proceedings of the 6th international conference: 6-ICPEPA
    Shishkovsky, I. ; Morozov, Y. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 255 (2009), Heft 24, S. 9847-9850
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Lamp-assisted CVD of carbon micro/nano-structures using metal catalysts and CH~2I~2 precursor : Proceedings from the European Material Research Society Spring meeting 2008-symposium B; Laser and plasma in micro- and nano-scale materials processing and diagnostics
    Rashid, A. ; Landstrom, L. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 255 (2009), Heft 10, S. 5368-5372
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Gas phase kinetic and optical emission spectroscopy studies in plasma-enhanced hot filament catalytic CVD production of carbon nanotubes : Proceedings from the European Material Research Society Spring meeting 2008-symposium B; Laser and plasma in micro- and nano-scale materials processing and diagnostics
    Gulas, M. ; Le Normand, F. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 255 (2009), Heft 10, S. 5177-5180
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    XPS study of the surface chemistry of Ag-covered L-CVD SnO2 thin films : International workshop on semiconductor surface passivation: SSP'07
    Kwoka, M. ; Ottaviano, L. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2008), Heft 24, S. 8089-8092
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Characterization of soft-X-ray detectors fabricated with high-quality CVD diamond thin films : International symposium on control of semiconductor interfaces; ISCSI-V
    Iwakaji, Y. ; Kanasugi, M. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2008), Heft 19, S. 6277-6280
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Self-limited growth of Si on B atomic-layer formed Ge(100) by ultraclean low-pressure CVD system : International symposium on control of semiconductor interfaces; ISCSI-V
    Yokogawa, T. ; Ishibashi, K. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2008), Heft 19, S. 6090-6093
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Surface passivation of InGaP/GaAs HBT using silicon-nitride film deposited by ECR-CVD plasma : International symposium on control of semiconductor interfaces; ISCSI-V
    Manera, L. T. ; Zoccal, L. B. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2008), Heft 19, S. 6063-6066
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    Nachschlagewerk
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    Synthesis of carbon nanotubes by CVD: Effect of acetylene pressure on nanotubes characteristics : International conference on solid films and surfaces; (ICSFS-13)
    Escobar, M. ; Moreno, M. S. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2007), Heft 1, S. 251-256
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Structural and surface properties of Si1-xGex thin films obtained by reduced pressure CVD : International conference on solid films and surfaces; (ICSFS-13)
    Teixeira, R. C. ; Doi, I. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 254 (2007), Heft 1, S. 207-212
    Konferenz
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Deposition and growth kinetics studies of thin zirconium dioxide films by UVILS-CVD : Photon-assisted synthesis and processing of functional materials
    Chen, M. ; Zhang, X. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 253 (2007), Heft 19, S. 7942-7946
    Konferenz
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Hf1-xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD) : Photon-assisted synthesis and processing of functional materials
    Liu, M. ; Zhu, L. Q. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 253 (2007), Heft 19, S. 7869-7873
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Raman spectroscopy of a-C:H:N films deposited using ECR-CVD with mixed gas : International workshop on basic aspects of non-equilibrium plasmas interacting with surfaces; BANPIS4: negative ions, their function and designability
    Liu, F. X. ; Yao, K. L. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 253 (2007), Heft 16, S. 6957-6962
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    XPS depth profiling studies of L-CVD SnO2 thin films : International workshop on semiconductor surface passivation
    Kwoka, M. ; Ottaviano, L. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 252 (2006), Heft NO 21, S. 7730-7733
    Konferenz
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Comparative photoemission study of the electronic properties of L-CVD SnO2 thin films : International workshop on semiconductor surface passivation
    Kwoka, M. ; Ottaviano, L. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 252 (2006), Heft NO 21, S. 7734-7738
    Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Positron lifetime and microstructural characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates : International workshop on slow positron beam techniques for solids and surfaces; SLOPOS-10
    Harting, M. ; Britton, D. T. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 252 (2006), Heft NO 9, S. 3188-3193
    Konferenz
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Morphological and structural characterization of CrO2/Cr2O3 films grown by Laser-CVD : European Materials Research Society; EMRS N 04
    Sousa, P. M. ; Silvestre, A. J. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 247 (2005), Heft NOS 1/4, S. 423-428
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Optical and structural properties of CVD-grown single crystal SiO2 using optically detected XAS : The 12th International conference on solid films and surfaces (ICSFS-12)
    Nakamura, T. ; Takahashi, N. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 244 (2005), Heft NO 1-4, S. 318-321
    Konferenz
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    Oxidization process of CVD diamond (100):H 2x1 surfaces : The 12th International conference on solid films and surfaces (ICSFS-12)
    Nakamura, J. ; Ito, T.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 244 (2005), Heft NO 1-4, S. 301-304
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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