Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
8 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Schlagwort

Sprache

8 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Novel polystyrene/CeO2-TiO2 multicomponent core/shell abrasives for high-efficiency and high-quality photocatalytic-assisted chemical mechanical polishing of reaction-bonded silicon carbide
    Zhai, Quan ; Gao, Bo ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 484 (2019-08-01), S. 534-541
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Novel photoelectrochemically combined mechanical polishing technology for scratch-free 4H-SiC surface by using CeO2-TiO2 composite photocatalysts and PS/CeO2 core/shell abrasives
    Gao, Bo ; Zhai, Wenjie ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 570 (2021-12-01), S. 151141-151141
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Surface modulation to enhance chemical mechanical polishing performance of sliced silicon carbide Si-face
    Li, Jianguo ; Xie, Xiaozhu ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 536 (2021), S. 147963-147963
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Fe-Nx/C assisted chemical–mechanical polishing for improving the removal rate of sapphire
    Xu, Li ; Luo, Guihai ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 343 (2015-07-01), S. 115-120
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Chemical mechanical polishing of steel substrate using colloidal silica-based slurries
    He, Yongyong ; Luo, Jianbin ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 330 (2015-03-01), S. 487-495
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Effect of additives for higher removal rate in lithium niobate chemical mechanical planarization
    Kim, Sung-Ryul ; Park, Jaehong ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 256 (2010), S. 1683-1688
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    High-performance chemical mechanical polishing slurry for aluminum alloy using hybrid abrasives of zirconium phosphate and alumina
    Wang, Daiqi ; Sun, Dazhi ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 537 (2021), S. 147859-147859
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Synergetic effect of potassium molybdate and benzotriazole on the CMP of ruthenium and copper in KIO 4 -based slurry
    Zhou, Wenbin ; Wang, Tongqing ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 320 (2014-11-01), S. 531-537
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -