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    Preparation of hafnium oxide films from oxygen-free Hf[N(C2H5)2]4 precursor and their properties
    TAKAHASHI, Kenji ; NAKAYAMA, Makoto ; et al.
    In: ISCSI-4: Proceedings of the Fourth International Symposium on the Control of Semiconductor Interfaces, Karuizawa, Japan, October 21-25, 2002, Jg. 216 (2003), Heft 1-4, S. 296-301
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Controlling precursor stability and evaporation through molecular design. Pseudo single source precursor approach to MOCVD SrTiO3 thin films
    SEISENBAEVA, Gulaim A ; GOHIL, Suresh ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 257 (2011), Heft 6, S. 2281-2290
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Growth of ZnS films by chemical vapor deposition of Zn[S2CN(CH3)2]2 precursor
    LEE, Everett Y. M ; TRAN, Nguyen H ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 241 (2005), Heft 3-4, S. 493-496
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Dual-source chemical vapour deposition of strontium and zirconium β-diketonates for strontium zirconate perovskite films
    ANDRIEUX, Michel ; VIALLET, Virginie ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 222 (2004), Heft 1-4, S. 351-356
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Copper chemical vapour deposition on organosilane-treated SiO2 surfaces
    SEMALTIANOS, N. G ; PASTOL, J.-L ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 222 (2004), Heft 1-4, S. 102-109
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Effect of annealing in processing of strontium titanate thin films by ALD
    KOSOLA, Anne ; PUTKONEN, Matti ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 211 (2003), Heft 1-4, S. 102-112
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    On the application of XPS to ceria films grown by MOCVD using a fluorinated precursor
    CHADWICK, D ; MCALEESE, J ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 99 (1996), Heft 4, S. 417-420
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Diamond deposition in a hot-filament reactor using different hydrocarbon precursor gases
    MAY, P. W ; EVERITT, N. M ; et al.
    In: Applied surface science, Jg. 68 (1993), Heft 3, S. 299-305
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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