Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
177 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Publikation

Sprache

177 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Spectroscopic characterization of the atomic hydrogen energies and densities and carbon species during helium-hydrogen-methane plasma CVD synthesis of diamond films
    MILLS, Randell ; SANKAR, Jayasree ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 6, S. 1313-1321
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Synthesis of a NdAlO3/Al2O3 ceramic-ceramic composite by single-source precursor CVD
    VEITH, M ; MATHUR, S ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 271-274
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Incorporation of a binary alloy in an oxide matrix via single source precursor CVD process
    VEITH, M ; LECERF, N ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 11 (1999), Heft 11, S. 3103-3112
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Predeposition chemistry underlying the formation of germanium films by CVD of tetravinylgermane
    HARRISON, P. G ; DE COINTET, C ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 6 (1994), Heft 10, S. 1620-1626
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    T8-hydridospherosiloxanes : novel precursors for SiO2 thin films. I: Precursor characterization and preliminary CVD
    NYMAN, M. D ; DESU, S. B ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 5 (1993), Heft 11, S. 1636-1640
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    CVD-Grown thin films of molecule-based magnets
    DE CARO, D ; BASSO-BERT, M ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 3, S. 587-589
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    CVD growth of boron nitride nanotubes
    LOURIE, O. R ; JONES, C. R ; et al.
    In: Special Issue on Organic-Inorganic Nanocomposite Materials, Jg. 12 (2000), Heft 7, S. 1808-1810
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Copper CVD precursors containing alkyl 3-oxobutanoate ligands
    HWANG, S ; CHOI, H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 8 (1996), Heft 5, S. 981-983
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    [CF3Au(≡NMe)] as a precursor for CVD of gold
    DRYDEN, N. H ; SHAPTER, J. G ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 4 (1992), Heft 5, S. 979-981
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition from (dimethylsilyl)(trimethylsilyl)methane. 1. Kinetics of the process; chemical and morphological structure of deposited silicon-carbon films
    WROBEL, A. M ; WALKIEWICZ-PIETRZYKOWSKA, A ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 8, S. 1749-1756
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Theoretical modeling of SiO2 photochemical vapor deposition and comparison to experimental results for three oxidant chemistries: SiH4 + O2, H2O/O2, and H2O2
    PFEIFER ROLAND, Randa ; ANDERSON, Roger W
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 8, S. 2501-2510
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Single-step preparation of oxide-oxide nanocomposites: Chemical vapor synthesis of LnAlO3/Al2O3 (Ln = Pr, Nd) thin films
    VEITH, Michael ; MATHUR, Sanjay ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 11, S. 4041-4052
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    2-Methyl-1-hexen-3-yne Lewis base stabilized β-diketonate copper(I) complexes: X-ray structures, theoretical study, and low-temperature chemical vapor deposition of copper metal
    CHEN, T.-Y ; VAISSERMANN, J ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 11, S. 3993-4004
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Oligomerization and polymerization steps in remote plasma chemical vapor deposition of silicon-carbon and silica films from organosilicon sources
    WROBEL, A. M ; WALKIEWICZ-PIETRZYKOWSKA, A ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 5, S. 1884-1895
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Atomic layer deposition and chemical vapor deposition of tantalum oxide by successive and simultaneous pulsing of tantalum ethoxide and tantalum chloride
    KUKLI, K ; RITALA, M ; et al.
    In: Special Issue on Organic-Inorganic Nanocomposite Materials, Jg. 12 (2000), Heft 7, S. 1914-1920
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Molecular orbital studies of titanium nitride chemical vapor deposition : Gas phase complex formation, ligand exchange, and elimination reactions
    CROSS, J. B ; SCHLEGEL, H. B
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 8, S. 2466-2474
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Platinum and palladium films obtained by low-temperature MOCVD for the formation of small particles on divided supports as catalytic materials
    HIERSO, J.-C ; FEURER, R ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 390-399
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Chemical vapor deposition of cerium oxide using the precursors [Ce(hfac)3(glyme)]
    POLLARD, K. D ; JENKINS, H. A ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 3, S. 701-710
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Synthesis and characterization of ruthenium complexes with two fluorinated amino alkoxide chelates. The quest to design suitable MOCVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHOU, Tsung-Yi ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 12, S. 2454-2462
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition from (dimethylsilyl) (trimethylsilyl)methane. 2. Property-structure relationships for resulting silicon-carbon films
    WROBEL, A. M ; WALKIEWICZ-PIETRZYKOWSKA, A ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 8, S. 1757-1762
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -