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    Tungsten(VI) selenide tetrachloride, WSeCl <subscript>4</subscript> - synthesis, properties, coordination complexes and application of [WSeCl <subscript>4</subscript> (Se <superscript> n </superscript> Bu <subscript>2</subscript> )] for CVD growth of WSe <subscript>2</subscript> thin films.
    Greenacre, VK ; Hector, AL ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 51 (2022-02-08), Heft 6, S. 2400-2412
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD grown GaSb <subscript> x </subscript> N <subscript>1- x </subscript> films as visible-light active photoanodes.
    Zywitzki, D ; Mitoraj, D ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 50 (2021-10-26), Heft 41, S. 14832-14841
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of different oxide and hybrid precursors on MOF-CVD of ZIF-8 films.
    Cruz, AJ ; Arnauts, G ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 50 (2021-05-25), Heft 20, S. 6784-6788
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Low temperature CVD of thermoelectric SnTe thin films from the single source precursor, [ <superscript> n </superscript> Bu <subscript>3</subscript> Sn(Te <superscript> n </superscript> Bu)].
    Robinson, F ; Newbrook, DW ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 50 (2021-01-27), Heft 3, S. 998-1006
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thioether complexes of WSCl <subscript>4</subscript> , WOCl <subscript>4</subscript> and WSCl <subscript>3</subscript> and evaluation of thiochloride complexes as CVD precursors for WS <subscript>2</subscript> thin films.
    Smith, DE ; Greenacre, VK ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 49 (2020-02-25), Heft 8, S. 2496-2504
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    β-Ketoiminato-based copper(ii) complexes as CVD precursors for copper and copper oxide layer formation.
    Pousaneh, E ; Korb, M ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 47 (2018-07-31), Heft 30, S. 10002-10016
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    High quality and high performance adsorption of Congo red using as-grown MWCNTs synthesized over a Co-MOF as a catalyst precursor via the CVD method.
    Lin, HY ; Zhao, J ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 46 (2017-12-12), Heft 48, S. 17067-17073
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    New amidinate complexes of indium(iii): promising CVD precursors for transparent and conductive In <subscript>2</subscript> O <subscript>3</subscript> thin films.
    Gebhard, M ; Hellwig, M ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 46 (2017-08-08), Heft 31, S. 10220-10231
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Aerosol-assisted CVD of cadmium diselenoimidodiphosphinate and formation of a new <superscript>i</superscript> Pr <subscript>2</subscript> N <subscript>2</subscript> P <subscript>3</subscript> <superscript>+</superscript> ion supported by combined DFT and mass spectrometric studies.
    Oyetunde, T ; Afzaal, M ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 45 (2016-11-22), Heft 46, S. 18603-18609
    Online academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Aerosol-assisted CVD of SnO from stannous alkoxide precursors.
    Hill, MS ; Johnson, AL ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 45 (2016-11-15), Heft 45, S. 18252-18258
    Online academicJournal
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    Niobium(V) and tantalum(V) halide chalcogenoether complexes--towards single source CVD precursors for ME₂ thin films.
    Benjamin, SL ; Chang, YP ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 43 (2014-11-28), Heft 44, S. 16640-8
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted delivery of precursors for chemical vapour deposition: expanding the scope of CVD for materials fabrication.
    Marchand, P ; Hassan, IA ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 42 (2013-07-14), Heft 26, S. 9406-22
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CVD of pure copper films from novel iso-ureate complexes.
    Willcocks, AM ; Pugh, T ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 42 (2013-04-21), Heft 15, S. 5554-65
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    Rhodium pyrazolate complexes as potential CVD precursors.
    Rivers, JH ; DePue Anderson, LJ ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 41 (2012-05-07), Heft 17, S. 5401-8
    Online academicJournal
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    Dinuclear Rh(II) pyrazolates as CVD precursors for rhodium thin films.
    McCarty, WJ ; Yang, X ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 41 (2012-01-07), Heft 1, S. 173-9
    Online academicJournal
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    Phosphite copper(I) trifluoroacetates [((RO)3P)mCuO2CCF3] (m = 1, 2, 3): synthesis, solid state structures and their potential use as CVD precursors.
    Mothes, R ; Rüffer, T ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 39 (2010-12-14), Heft 46, S. 11235-47
    Online academicJournal
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    Factors controlling material deposition in the CVD of nickel sulfides, selenides or phosphides from dichalcogenoimidodiphosphinato complexes: deposition, spectroscopic and computational studies.
    Panneerselvam, A ; Periyasamy, G ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 39 (2010-07-14), Heft 26, S. 6080-91
    Online academicJournal
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    Syntheses, X-ray structures and CVD of titanium(IV) arsine complexes.
    Thomas, T ; Pugh, D ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 39 (2010-06-14), Heft 22, S. 5325-31
    Online academicJournal
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    X-Ray structural and gas phase studies of silver(i) perfluorinated carboxylate complexes with 2,2'-bipyridyl as potential precursors for chemical vapour deposition (CVD).
    Szłyk, E ; Szczesny, R ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), Jg. 39 (2010-02-21), Heft 7, S. 1823-30
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    Thio- and seleno-ether complexes with Group 4 tetrahalides and tin tetrachloride: preparation and use in CVD for metal chalcogenide films.
    Reid, SD ; Hector, AL ; et al.
    In: Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 2007-11-14, Heft 42, S. 4769-77
    Online academicJournal
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