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    Review—Silicon Carbide Thin Film Technologies: Recent Advances in Processing, Properties, and Applications: Part II. PVD and Alternative (Non-PVD and Non-CVD) Deposition Techniques
    Kaloyeros, Alain E. ; Arkles, Barry
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 13 (2024-04-01), Heft 4, S. 043001-43001
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Silicon Carbide Thin Film Technologies: Recent Advances in Processing, Properties, and Applications - Part I Thermal and Plasma CVD
    Kaloyeros, Alain E. ; Arkles, Barry
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 12 (2023-10-01), Heft 10, S. 103001-103001
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Influence of Water-Cooled Jacket on Polysilicon CVD, Fines Formation and Thermal Loss in Komatsu Reactor
    Zhang, Pan ; Chen, Guanghui ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 8 (2019), Heft 10, S. P615- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Identification of Film-Forming Species during SiC-CVD of CH3SiCl3/H2 by Exploiting Deep Microtrenches
    Shima, Kohei ; Sato, Noboru ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 8 (2019), Heft 8, S. P423- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Investigation of Contact Resistance Between Sputter-Deposited ITO and Mist-CVD-Deposited InSnZnO for Transparent Thin-Film Transistors Applications
    Liu, Han-Yin ; Liao, Yu-Jie
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 12 (2023-05-01), Heft 5, S. 055011-55011
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    A CVD Method for Preparing CNTs-Grafted Carbon Fiber Fabrics under Quasi-Vacuum at Low Temperature
    Lu, Ruijiao ; Wang, Chengguo ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), Heft 3, S. M49- (5S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Growth of 28Si Quantum Well Layers for Qubits by a Hybrid MBE/CVD Technique
    Liu, Yujia ; Gradwohl, Kevin-Peter ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 12 (2023-02-01), Heft 2, S. 024006-24006
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Atomically Controlled Processing for Dopant Segregation in CVD Si and Ge Epitaxial Growth
    Murota, Junichi ; Yamamoto, Yuji ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), Heft 6, S. P305- (6S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Effect of CVD-Coated Diamond Discs on Pad Surface Micro-Texture and Polish Performance in Copper CMP
    Stuffle, Calliandra ; Han, Ruochen ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), Heft 2, S. P9- (6S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Pinch Off Plasma CVD Deposition Process and Material Technology for Nano-Device Air Gap/Spacer Formation
    Nguyen, Son ; and, Jiang
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), Heft 10, S. P588- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Characteristics of CVD Grown Multi-Layer Graphene under Different Types of Precursors and Their Respective Flow Rate
    Abdalrheem, Raed ; and, Lim ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), Heft 10, S. M119- (6S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Editors' Choice-Epitaxial CVD Growth of Ultra-Thin Si Passivation Layers on Strained Ge Fin Structures
    and, Langer
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 7 (2018), Heft 2, S. P66- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Comparative Study of Current Transients in HPHT and CVD Diamond Capacitor-Sensors
    and, Meskauskaite
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2016), Heft 4, S. P3101- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Thermal Shields for Heat Loss Reduction in Siemens-Type CVD Reactors
    and, Zamorano ; Canizo, del
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 5 (2016), Heft 3, S. P172- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Comparative Study on Cu-CVD Nucleation Using ?-diketonato and Amidinato Precursors for Sub-10-nm-Thick Continuous Film Growth
    Shima, Kohei ; Shimizu, Hideharu ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 4 (2015), Heft 8, S. P305- (9S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Trends in Copper Precursor Development for CVD and ALD Applications
    Gordon, Peter G. ; Kurek, Agnieszka ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 4 (2015), Heft 1, S. N3188- (10S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Local Arrangement of Substitutional C Atoms and the Thermal Stability of Epitaxial Si:C(P) Grown by CVD
    Kumar, Sathish ; Nuytten, Thomas ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 6 (2017), Heft 12, S. P755- (5S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Study on the Adhesion Strength of CVD-Cu Films with ALD-Co(W) Underlayers Made Using Amidinato Precursors
    Shima, Kohei ; Shimizu, Hideharu ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 4 (2015), Heft 2, S. P20- (10S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Evaluation of Low Temperature TEOS-Ozone Silicon Dioxide Thin Film CVD under Sub-Atmospheric Pressure Using Consecutively Pulsed Reactant Injection
    Yu, Vladislav
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 4 (2015), Heft 1, S. N3164- (4S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Self-Assembled Nano-Stuffing Structure in CVD and ALD Co(W) Films as a Single-Layered Barrier/Liner for Future Cu-Interconnects
    Shimizu, Hideharu ; Kumamoto, Akihito ; et al.
    In: ECS Journal of Solid State Science and Technology, Jg. 2 (2013), Heft 11, S. P471- (7S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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