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    Impact of source/drain implants on threshold voltage matching in deep sub-micron CMOS technologies
    DUBOIS, Jerome ; KNOL, Johan ; et al.
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 115-118
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Suitability of scaled SOI CMOS for high-frequency analog circuits
    ZAMDMER, N ; PLOUCHART, J.-O ; et al.
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 511-514
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Spike anneal optimization for digital and analogue high performance 0.13 μm CMOS platform
    JOSSE, E ; ARNAUD, F ; et al.
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 207-210
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Post-process CMOS front end engineering with focused ion beams
    LUGSTEIN, A ; BREZNA, W ; et al.
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 111-114
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Physics of the subthreshold slope-initial improvement and final degradation in short CMOS devices
    GWOZIECKI, R ; SKOTNICKI, T
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 639-642
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High performance 0.1μm CMOS device with suppressed parasitic junction capacitance and junction leakage current
    HYUN SIK, KIM ; SHIANG YANG, ONG ; et al.
    In: ESSDERC 2002 : 32nd European solid-state device research conference (Firenze, 24-26 September 2002), 2002, S. 319-322
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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