Suchergebnisse
UB Katalog
Artikel & mehr
Suchmaske
Suchergebnisse einschränken oder erweitern
Aktive Suchfilter
Weniger Treffer
Gefunden in
Art der Quelle
Schlagwort
- chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) 56 Treffer
- depot chimique en phase vapeur (incluant le cvd active par plasma, mocvd, etc.) 56 Treffer
- chemical vapor deposition 39 Treffer
- transistors 39 Treffer
- depot chimique phase vapeur 37 Treffer
-
45 weitere Werte:
- deposito quimico fase vapor 34 Treffer
- compose iii-v 24 Treffer
- compuesto iii-v 24 Treffer
- iii-v compound 24 Treffer
- methode mocvd 23 Treffer
- mocvd 23 Treffer
- binary compound 21 Treffer
- compose binaire 21 Treffer
- compuesto binario 21 Treffer
- galio nitruro 19 Treffer
- gallium nitride 19 Treffer
- nitrure de gallium 19 Treffer
- gan 18 Treffer
- high electron mobility transistor 15 Treffer
- transistor mobilite electron elevee 15 Treffer
- transistor movibilidad elevada electrones 15 Treffer
- aluminio nitruro 14 Treffer
- aluminium nitride 14 Treffer
- compose ternaire 14 Treffer
- compuesto ternario 14 Treffer
- evaluacion prestacion 14 Treffer
- evaluation performance 14 Treffer
- nitrure d'aluminium 14 Treffer
- performance evaluation 14 Treffer
- ternary compound 14 Treffer
- graphene 13 Treffer
- algan 12 Treffer
- corriente escape 12 Treffer
- courant fuite 12 Treffer
- leakage current 12 Treffer
- silicium 12 Treffer
- silicon 12 Treffer
- damaging 11 Treffer
- deterioracion 11 Treffer
- endommagement 11 Treffer
- methode pecvd 11 Treffer
- pecvd 11 Treffer
- semiconducteur bande interdite nulle 11 Treffer
- silicio 11 Treffer
- zero band gap semiconductors 11 Treffer
- alto rendimiento 10 Treffer
- disruptive voltage 10 Treffer
- field effect transistor 10 Treffer
- haute performance 10 Treffer
- high performance 10 Treffer
Verlag
Sprache
63 Treffer
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 1, S. 114-116Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 32 (2011), Heft 8, S. 1113-1115Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 32 (2011), Heft 11, S. 1591-1593Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 33 (2012), Heft 3, S. 387-389Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 33 (2012), Heft 7, S. 1084-1086Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 37 (2016-06-01), Heft 6, S. 785-788Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 33 (2012), Heft 7, S. 925-927Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 33 (2012), Heft 1, S. 17-19Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 32 (2011), Heft 5, S. 635-637Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 31 (2010), Heft 12, S. 1482-1484Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 3, S. 399-401Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 5, S. 545-547Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 3, S. 324-326Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 3, S. 372-374Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 5, S. 590-592Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 2, S. 277-279Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 35 (2014), Heft 1, S. 81-83Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 34 (2013), Heft 11, S. 1373-1375Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 34 (2013), Heft 3, S. 357-359Online academicJournalZugriff:
-
In: IEEE electron device letters, Jg. 34 (2013), Heft 9, S. 1163-1165Online academicJournalZugriff: