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    Replacement of Waveguides by a Resonant Cavity in a Microwave CVD Reactor.
    Isoldi, Mauricio ; Ozono, Edson Moriyoshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 49 (2021-09-15), Heft 9, Part 2, S. 2718-2721
    Online academicJournal
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    Effect of Antenna-Substrate Distance on Quality of a-Si:H During ICP CVD Using a Flat Spiral Antenna.
    Karar, Partha ; Kumar, Gourav ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 49 (2021-02-01), Heft 2, S. 624-631
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Pulsed-DC Discharge for Plasma CVD of Carbon Thin Films.
    Mamun, Md Abdullah Al ; Furuta, Hiroshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 47 (2019), Heft 1, S. 22-31
    Online academicJournal
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    Direct current bias effects in RF induction thermal plasma diamond CVD.
    Berghaus, Jörg Oberste ; Meunier, Jean-Luc ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 30 (2002-02-03), Heft 1, S. 442-449
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Control of Plasma-Dielectric Boundary Sheath Potential for the Synthesis of Carbon Nanomaterials in Surface Wave Plasma CVD.
    Kim, Jaeho ; Ohsaki, Hiroyuki ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 43 (2015-01-03), Heft 1, S. 480-484
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Evolution of Surface Morphology With Hydrogen Dilution During Silicon Epitaxy by Mesoplasma CVD.
    Diaz, Jose Mario A. ; Kambara, Makoto ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 37 (2009-09-01), Heft 9, S. 1723-1729
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Dual PE-CVD Circulating Fluidized Bed Reactor.
    Tap, Roland ; Willert-Porada, Monika
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 32 (2004-10-02), Heft 5, S. 2085-2092
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Local growth studies of CVD diamond using a probe-like...
    Berghaus, Jorg Oberste ; Meunier, Jean-Luc
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 25 (1997-10-01), Heft 5, S. 1058-1065
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    CVD Diamond Windows Studied With Low- and High-Power Millimeter Waves.
    Heidinger, Roland ; Dammertz, Gunter ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 30 (2002-06-01), Heft 3, S. 800-807
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Hot Spot Formation in Microwave Plasma CVD Diamond Synthesis.
    Hemawan, Kadek W. ; Yan, Chih S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 39 (2011-11-03), Heft 11, S. 2790-2791
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Two-Dimensional Spatial Profile of Volume Fraction of Nanoparticles Incorporated Into a-Si:H Films Deposited by Plasma CVD.
    Nakamura, William Makoto ; Miyahara, Hiroomi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 36 (2008-08-01), Heft 4, S. 888-889
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Secondary Electron Yield Measurements of Carbon Nanotube Forests: Dependence on Morphology and Substrate.
    Wood, Brian ; Lee, Jordan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 47 (2019-08-01), Heft 8, S. 3801-3809
    Online academicJournal
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    High-Power Test of Chemical Vapor Deposited Diamond Window for an ECRH System in SST-1.
    Shukla, Braj Kishore ; Babu, Rajan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 41 (2013-07-01), Heft 7, S. 1794-1798
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Atmospheric-Pressure PECVD Coating and Plasma Chemical Etching for Continuous Processing.
    Hopfe, Volkmar ; Sheel, David W.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 35 (2007-04-01), Heft 2, S. 204-214
    Online academicJournal
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    Two-dimensional profile of emissive species in a magnetized SiH/sub 4//Ar glow discharge for the scanning-plasma CVD method.
    Kawasaki, H. ; Matsuda, Y. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 19 (1991-01-02), Heft 2, S. 445-451
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Numerical Simulation of the Flow, Temperature, and Concentration Fields in a Radio Frequency Plasma CVD Reactor.
    Guo-Ying, Zhao ; Ching-Wen, Zhu
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 14 (1986-01-04), Heft 4, S. 531-537
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Lowering of the Substrate Bias Voltage for Deposition of Cubic Boron Nitride in Microwave Plasma.
    Nakakuma, T. ; Teii, K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 47 (2019-02-01), Heft 2, S. 1205-1209
    Online academicJournal
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    Ultrahigh-Speed Coating of DLC at Over 100 \mum/h by Using Microwave-Excited High-Density Near Plasma.
    Kousaka, Hiroyuki ; Okamoto, Takashi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 41 (2013-08-01), Heft 8, S. 1830-1836
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Photocatalytic Titanium Oxide Film Deposition by Atmospheric TPCVD Using Air as the Working Gas.
    Ando, Yasutaka ; Chen, Sheng Yuan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 41 (2013-08-01), Heft 8, S. 1850-1855
    Online academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Optical Diagnostics of Iron Oxide Nanoparticle Synthesis in Microwave Oxygen Plasma
    Miroslav, Šnírer ; Peter, Zelina ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, 2014
    academicJournal
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