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    academicJournal
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    Evolution of Surface Morphology With Hydrogen Dilution During Silicon Epitaxy by Mesoplasma CVD
    DIAZ, Jose Mario A ; KAMBARA, Makoto ; et al.
    In: Special Issue on Advances on Plasma Processing for Semiconductor Manufacturing, Jg. 37 (2009), Heft 9, S. 1723-1729
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Replacement of Waveguides by a Resonant Cavity in a Microwave CVD Reactor
    Ronaldo Domingues Mansano ; Edson Moriyoshi Ozono ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 49 (2021-09-01), S. 2718-2721
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
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    Two-Dimensional Spatial Profile of Volume Fraction of Nanoparticles Incorporated Into a-Si:H Films Deposited by Plasma CVD
    NAKAMURA, William Makoto ; MIYAHARA, Hiroomi ; et al.
    In: Images in Plasma Science, Jg. 36 (2008), Heft 4, S. 888-889
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    academicJournal
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    academicJournal
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    Evolution of Surface Morphology With Hydrogen Dilution During Silicon Epitaxy by Mesoplasma CVD
    Diaz, J.M.A. ; Kambara, Makoto ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 37 (2009-09-01), S. 1723-1729
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
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    Atmospheric-pressure PECVD coating and plasma chemical etching for continuous processing
    HOPFE, Volkmar ; SHEEL, David W
    In: Plenary and invited papers from ICOPS 2006, Jg. 35 (2007), Heft 2, S. 204-214
    Online Konferenz
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    Synthesis of Polystyrene Thin Films by Means of an Atmospheric-Pressure Plasma Torch and a Dielectric Barrier Discharge
    MERCHE, Delphine ; POLEUNIS, Claude ; et al.
    In: Special Issue on Atmospheric-Pressure Plasmas: Science and Applications, Jg. 37 (2009), Heft 6, S. 951-960
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Hydrophobic Coatings Obtained in Atmospheric Pressure Plasma
    TOPALA, Ionut ; ASANDULESA, Mihai ; et al.
    In: Special Issue on Atmospheric-Pressure Plasmas: Science and Applications, Jg. 37 (2009), Heft 6, S. 946-950
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Applications of Pulsed Discharge to Thin-Film Deposition
    OPALINSKA, Teresa ; ULEJCZYK, Bogdan ; et al.
    In: Special Issue on Atmospheric-Pressure Plasmas: Science and Applications, Jg. 37 (2009), Heft 6, S. 934-940
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    The plasma characteristics and film formation generated by the electron cyclotron resonance mechanism
    JUNG-HYUNG, KIM ; YONG-JIN, KIM ; et al.
    In: IEEE transactions on plasma science, Jg. 22 (1994), Heft 3, S. 235-241
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Visualizing the evolution of surface bond straining during radical-surface interactions in plasma deposition processes
    SRIRAMAN, Saravanapriyan ; AYDIL, Eray S ; et al.
    In: Special Issue on Images in Plasma Science, Jg. 30 (2002), Heft 1, S. 112-113
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Visualizing radical-surface interactions in plasma deposition processes : Reactivity of SiH3 radicals with Si surfaces : Special issue on images in plasma science
    RAMALINGAM, S ; MAROUDAS, D ; et al.
    In: IEEE transactions on plasma science, Jg. 27 (1999), Heft 1, S. 104-105
    Online academicJournal
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    Wettability of Amorphous Diamond-Like Carbons Deposited on Si and PMMA in Pulse-Modulated Plasmas.
    Sung, Ta-Lun ; Yang, Jason Hsiao-Chun ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 40 (2012-07-01), Heft 7, S. 1837-1842
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Surface Modification of Si Wafer by Low-Pressure High-Frequency Plasma Chemical Vapor Deposition Method.
    Yuji, Toshifumi ; Mungkung, Narong ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 39 (2011-06-01), Heft 6, S. 1427-1431
    Online academicJournal
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    academicJournal
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    Selective Deposition of Silicon at Room Temperature Using DC Microplasmas.
    Wilson, Chester G. ; Gianchandani, Yogesh B.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 35 (2007-06-01), Heft 3, S. 573-577
    Online academicJournal
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    Nanostructured Silicon Thin Films Deposited Under Dusty Plasma Conditions.
    Cavarroc, Marjorie ; Mikikan, Maxime ; et al.
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 36 (2008-08-01), Heft 4, S. 1016-1017
    Online academicJournal
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    Volltext
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    First-Principles Analysis of Precursor-Surface Reaction Pathways Relevant to Plasma Deposition of Silicon Thin Films.
    Bakos, Tamas ; Maroudas, Dimitrios
    In: IEEE Transactions on Plasma Science, Jg. 33 (2005-04-01), Heft 2, S. 230-231
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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