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    Watermark Detection in CMOS Image Sensors Using Cosine-Convolutional Semantic Networks.
    Solorzano, Carlos ; Tsai, Du-Ming
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-05-01), Heft 2, S. 279-290
    Online academicJournal
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    A Novel Multiscale Residual Aggregation Network-Based Image Super-Resolution Algorithm for Semiconductor Defect Inspection.
    Liu, Yang ; Hu, Lilei ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 37 (2024-02-01), Heft 1, S. 93-102
    Online academicJournal
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    Automatic Classification of C-SAM Voids for Root Cause Identification of Bonding Yield Degradation.
    Baderot, Julien ; Garrais, Solange ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-11-01), Heft 4, S. 537-542
    Online academicJournal
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    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research.
    Chan, Victor ; Cheng, K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), Heft 4, S. 393-399
    Online academicJournal
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    CMOS-Compatible MESFETs for High Power RF Integrated Circuits.
    Mehr, Payam ; Moallemi, Soroush ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-02-01), Heft 1, S. 14-22
    Online academicJournal
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    Silicon Nitride Thickness Profile Tuning to Reduce Shallow Trench Isolation Variability in Planar CMOS.
    Rajachidambaram, Jaana ; Gumpher, John ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 29 (2016-08-01), Heft 3, S. 217-222
    Online academicJournal
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    Incorporating Manufacturing Process Variation Awareness in Fast Design Optimization of Nanoscale CMOS VCOs.
    Mohanty, Saraju P. ; Kougianos, Elias
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-02-01), Heft 1, S. 22-31
    Online academicJournal
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    Timing Optimization and Noise Tolerance for Dynamic CMOS Susceptible to Process Variations.
    Yelamarthi, Kumar ; Chen, Chien-In Henry
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), Heft 2, S. 255-265
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    A Comparative Study of Metamodels for Fast and Accurate Simulation of Nano-CMOS Circuits.
    Garitselov, Oleg ; Mohanty, Saraju P ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-02-01), Heft 1, S. 26-36
    Online academicJournal
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    Process Variation-Aware Timing Optimization for Dynamic and Mixed-Static-Dynamic CMOS Logic.
    Yelamarthi, Kumar ; Chen, Chien-In Henry
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), Heft 1, S. 31-39
    Online academicJournal
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    Call for Papers for a Special Issue of IEEE Transactions on Electron Devices on Reliability of CMOS Logic, Memory, Power and Beyond CMOS Devices.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 31 (2018-11-01), Heft 4, S. 545-545
    Online academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability.
    Wils, Nicole ; Tuinhout, Hans P. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), Heft 1, S. 59-65
    Online academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of -- 1/+0.8 °C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits.
    Sasaki, Masahiro ; Ikeda, Makoto ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), Heft 2, S. 201-208
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Ring Oscillators for CMOS Process Tuning and Variability Control.
    Bhushan, Manjul ; Gattiker, Anne ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), Heft 1, S. 10-18
    Online academicJournal
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    Enhancement of CMOS Performance by Process-Induced Stress.
    Luo, Yuhao ; Nayak, Deepak K.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-02-01), Heft 1, S. 63-68
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    MOCVD Growth of High Quality InGaAs HEMT Layers on Large Scale Si Wafers for Heterogeneous Integration With Si CMOS.
    Nguyen, Xuan Sang ; Yadav, Sachin ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 30 (2017-11-01), Heft 4, S. 456-461
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    Mechanical–Electrical Measurements and Relevant Test Structures for Sensing Interconnect Stress Effects in CMOS Technology.
    Blayac, Sylvain ; Rivero, Christian ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), Heft 4, S. 564-570
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Test Structures for the Characterization of MEMS and CMOS Integration Technology.
    Lin, Huamao ; Walton, Anthony J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), Heft 2, S. 140-147
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Effect of UV/VUV Enhanced RTP on Process Variation and Device Performance of Metal Gate/High-κ Gate Stacks for the Sub-90-nm CMOS Regime.
    Damjanovic, Daniel ; Bolla, Harish Kumar ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-02-01), Heft 1, S. 55-62
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    Forecast of CMOS Imagers Yield Learning by the Gompertz Model.
    Organtini, Paolo ; Russo, Felice
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), Heft 3, S. 393-399
    Online academicJournal
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