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    Watermark Detection in CMOS Image Sensors Using Cosine-Convolutional Semantic Networks
    Solorzano, Carlos ; Tsai, Du-Ming
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-05-01), S. 279-290
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    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    Gaul, A. ; Greene, Andrew M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), S. 393-399
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    CMOS-Compatible MESFETs for High Power RF Integrated Circuits
    Lepkowski, William ; Zhang, Xiong ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-02-01), S. 14-22
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    Silicon Nitride Thickness Profile Tuning to Reduce Shallow Trench Isolation Variability in Planar CMOS
    Rajachidambaram, Jaana S. ; Gumpher, John ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 29 (2016-08-01), S. 217-222
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    Temperature Distribution Analysis of CMOS LSI With On-Chip Sensing Device Arrays
    Hatakeyama, Tomoyuki ; Iwata, Hideyuki ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-05-01), S. 151-158
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    Incorporating Manufacturing Process Variation Awareness in Fast Design Optimization of Nanoscale CMOS VCOs
    Kougianos, Elias ; Mohanty, Saraju P.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-02-01), S. 22-31
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    Manufacturing Challenges of GaN-on-Si HEMTs in a 200 mm CMOS Fab
    Halder, Sandip ; B. De Jaeger ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), S. 361-367
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    Forecast of CMOS Imagers Yield Learning by the Gompertz Model
    Russo, Felice ; Organtini, Paolo
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), S. 393-399
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    Timing Optimization and Noise Tolerance for Dynamic CMOS Susceptible to Process Variations
    Chien-In Henry Chen ; Yelamarthi, Kumar
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), S. 255-265
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    CMOS Junctionless Field-Effect Transistors Manufacturing Cost Evaluation
    Wen, Sandy M. ; Chi On Chui
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-02-01), S. 162-168
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    Mechanical–Electrical Measurements and Relevant Test Structures for Sensing Interconnect Stress Effects in CMOS Technology
    Demange, Nicolas ; Blayac, Sylvain ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), S. 564-570
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    Shallow Trench Isolation for the 45-nm CMOS Node and Geometry Dependence of STI Stress on CMOS Device Performance
    Bach, Karl-Heinz ; Galiano, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-05-01), S. 59-67
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    Improved Characterization Methodology of Gate-Bulk Leakage and Capacitance for Ultrathin Oxide Partially Depleted SOI Floating-Body CMOS
    Chien, Shan-Chieh ; Lin, Guan-Shyan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), S. 155-161
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    Process Variation-Aware Timing Optimization for Dynamic and Mixed-Static-Dynamic CMOS Logic
    Yelamarthi, Kumar ; Chien-In Henry Chen
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), S. 31-39
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    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability
    Tuinhout, H.P. ; Meijer, Maurice ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), S. 59-65
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    Low-K/Cu CMOS-Based SoC Technology With 115-GHz<tex>$f_T$</tex>, 100-GHz<tex>$f_max$</tex>, Low Noise 80-nm RF CMOS, High-Q MiM Capacitor, and Spiral Cu Inductor
    Guo, Jyh-Chyurn
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-08-01), S. 331-338
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    Analysis on the dependence of layout parameters on ESD robustness of CMOS devices for manufacturing in deep-submicron CMOS process
    Chen, Tung-Yang ; Ker, Ming-Dou
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 16 (2003-08-01), S. 486-500
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    Feedforward Run-to-Run Control for Reduced Parametric Transistor Variation in CMOS Logic 0.13 $\mu{\rm m}$ Technology
    Jedidi, N. ; Roussy, Agnes ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 24 (2011-05-01), S. 273-279
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    New Test Structure to Monitor Contact-to-Poly Leakage in Sub-90 nm CMOS Technologies
    King, Ming-Chu ; Chin, A.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), S. 244-247
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    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of ${-}{\hbox{1}}/{+}{\hbox{0.8}}\ ^{\circ}$C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits
    Sasaki, M. ; Ikeda, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), S. 201-208
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