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    On the Fly Ellipsometry Imaging for Process Deviation Detection.
    Alcaire, T. ; Le Cunff, D. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 35 (2022-08-01), Heft 3, S. 432-438
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    Shape and Roughness Extraction of Line Gratings by Small Angle X-Ray Scattering: Statistics and Simulations.
    Reche, Jerome ; Gergaud, Patrice ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 35 (2022-08-01), Heft 3, S. 425-431
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Leakage Current Paths in Isolated AlGaN/GaN Heterostructures.
    Moereke, Janina ; Morvan, Erwan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 29 (2016-11-01), Heft 4, S. 363-369
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Guest Editorial Special Section on the IEEE 33rd International Conference on Microelectronic Test Structures (ICMTS).
    Cagli, Carlo ; Smith, Stewart
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-08-01), Heft 3, S. 233-234
    Online academicJournal
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    Investigation of Pattern Effects in Rapid Thermal Processing Technology: Modeling and Experimental Results.
    Cacho, Florian ; Bono, H. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 23 (2010-05-01), Heft 2, S. 303-310
    Online academicJournal
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    Automatic Extraction Methodology for Accurate Measurements of Effective Channel Length on 65-nm MOSFET Technology and Below.
    Fleury, Dominique ; Cros, Antoine ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-11-01), Heft 4, S. 504-512
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Approach for a Standardized Methodology for Multisite Processing of 300-mm Wafers at R&D Sites.
    Oechsner, Richard ; Pfeffer, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-08-01), Heft 3, S. 215-221
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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