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    Effect of UV/VUV enhanced RTP on process variation and device performance of metal gate/high-κ gate stacks for the Sub-90-nm CMOS regime : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era
    DAMJANOVIC, Daniel ; HARISH KUMAR, BOLLA ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 1, S. 55-62
    Online academicJournal
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    Improved Characterization Methodology of Gate-Bulk Leakage and Capacitance for Ultrathin Oxide Partially Depleted SOI Floating-Body CMOS : International Conference on Microelectronic Test Structures
    CHEN, David C ; LEE, Ryan ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 25 (2012), Heft 2, S. 155-161
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Manufacturing benefits of disilane as a precursor for polycrystalline silicon films for the advanced CMOS gate electrode : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era
    YUANNING, CHEN ; HAOWEN, BU ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 1, S. 42-48
    Online academicJournal
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    Improved Characterization Methodology of Gate-Bulk Leakage and Capacitance for Ultrathin Oxide Partially Depleted SOI Floating-Body CMOS
    Chien, Shan-Chieh ; Lin, Guan-Shyan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), S. 155-161
    Online unknown
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    Effect of UV/VUV Enhanced RTP on Process Variation and Device Performance of Metal Gate/High-<tex>$kappa$</tex>Gate Stacks for the Sub-90-nm CMOS Regime
    Narayan, Jagdish ; Senter, H. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-02-01), S. 55-62
    Online unknown
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    A high-density, matched hexagonal transistor structure in standard CMOS technology for high-speed applications
    Sansen, Willy ; Steyaert, Michiel ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 13 (2000-05-01), S. 167-172
    Online unknown
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    Use of test structures for characterization and modeling of inter- and intra-layer capacitances in a CMOS process
    Nouet, Pascal ; Toulouse, A.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 10 (1997-05-01), S. 233-241
    Online unknown
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    Test structure design considerations for RF-CV measurements on leaky dielectrics
    SCHMITZ, Jurriaan ; CUBAYNES, Florence N ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 17 (2004), Heft 2, S. 150-154
    Online Konferenz
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    Analysis and Characterization of Capacitance Variation Using Capacitance Measurement Array
    Shan, Wentao ; Wang, Huiyan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-05-01), S. 301-311
    Online unknown
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    Measurement and characterization of multilayered interconnect capacitance for deep-submicron VLSI technology
    Park, Hun-Sup ; Wee, Jae-Kyung ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 11 (1998), S. 636-644
    Online unknown
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    Analysis and Characterization of Device Variations in an LSI Chip Using an Integrated Device Matrix Array
    Ohkawa, S. ; Aoki, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 17 (2004-05-01), S. 155-165
    Online unknown
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    Ring Oscillator Technique for MOSFET $CV$ Characterization
    Cai, Ming ; Kim, Chin ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), S. 180-185
    Online unknown
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    Novel RF Process Monitoring Test Structure for Silicon Devices
    Kok Meng Lim ; Manh Anh Do ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-05-01), S. 246-254
    Online unknown
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    A new method for detecting the polysilicon gate reentrant of the submicron LDD MOSFET's
    Ng, K.K. ; Kowng, V. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 7 (1994), S. 460-462
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Analysis and Characterization of Capacitance Variation Using Capacitance Measurement Array.
    Zhang, Peiyong ; Feng, Chenhui ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-05-01), Heft 2, S. 301-311
    Online academicJournal
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    Integrated Capacitor Array Matching Characterization.
    Posch, Werner ; Seebacher, Ehrenfried
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-08-01), Heft 3, S. 331-338
    Online academicJournal
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    Analysis and characterization of device variations in an LSI chip using an integrated device matrix array
    OHKAWA, Shin-Ichi ; AOKI, Masakazu ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 17 (2004), Heft 2, S. 155-165
    Online Konferenz
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    A Precision Mismatch Measurement Technique for Integrated Capacitor Array Using a Switched Capacitor Amplifier
    KWON, Young-Cheon ; KWON, Oh-Kyong
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 26 (2013), Heft 2, S. 226-232
    Online academicJournal
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    Measurement and characterization of multilayered interconnect capacitance for deep-submicron VLSI technology
    WEE, J.-K ; YOUNG JUNE, PARK ; et al.
    In: International Statistical Metrology Workshop, Jg. 11 (1998), Heft 4, S. 636-644
    Online Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Ring Oscillator Technique for MOSFET CV Characterization : International Conference on Microelectronic Test Structures
    BHUSHAN, Manjul ; KETCHEN, Mark B ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 21 (2008), Heft 2, S. 180-185
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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