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    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability
    WILS, Nicole ; TUINHOUT, Hans P ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 22 (2009), Heft 1, S. 59-65
    Online academicJournal
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    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of -1/+0.8 °C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits : International Conference on Microelectronic Test Structures
    SASAKI, Masahiro ; IKEDA, Makoto ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 21 (2008), Heft 2, S. 201-208
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    Gaul, A. ; Greene, Andrew M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), S. 393-399
    Online unknown
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    Enhancement of CMOS performance by process-induced stress : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era
    YUHAO, LUO ; NAYAK, Deepak K
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 1, S. 63-68
    Online academicJournal
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    Effect of UV/VUV enhanced RTP on process variation and device performance of metal gate/high-κ gate stacks for the Sub-90-nm CMOS regime : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era
    DAMJANOVIC, Daniel ; HARISH KUMAR, BOLLA ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 1, S. 55-62
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    ESD implantations for on-chip ESD protection with layout consideration in 0.18-μm salicided CMOS technology
    KER, Ming-Dou ; CHUANG, Che-Hao ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 2, S. 328-337
    Online academicJournal
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    CMOS-Compatible MESFETs for High Power RF Integrated Circuits
    Lepkowski, William ; Zhang, Xiong ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-02-01), S. 14-22
    Online unknown
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    Silicon Nitride Thickness Profile Tuning to Reduce Shallow Trench Isolation Variability in Planar CMOS
    Rajachidambaram, Jaana S. ; Gumpher, John ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 29 (2016-08-01), S. 217-222
    Online unknown
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    Enhancement of CMOS Performance by Process-Induced Stress.
    Luo, Yuhao ; Nayak, Deepak K.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 18 (2005-02-01), Heft 1, S. 63-68
    Online academicJournal
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    Temperature Distribution Analysis of CMOS LSI With On-Chip Sensing Device Arrays
    Hatakeyama, Tomoyuki ; Iwata, Hideyuki ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-05-01), S. 151-158
    Online unknown
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    Incorporating Manufacturing Process Variation Awareness in Fast Design Optimization of Nanoscale CMOS VCOs
    Kougianos, Elias ; Mohanty, Saraju P.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-02-01), S. 22-31
    Online unknown
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    Manufacturing Challenges of GaN-on-Si HEMTs in a 200 mm CMOS Fab
    Halder, Sandip ; B. De Jaeger ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), S. 361-367
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    Forecast of CMOS Imagers Yield Learning by the Gompertz Model
    Russo, Felice ; Organtini, Paolo
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), S. 393-399
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    Timing Optimization and Noise Tolerance for Dynamic CMOS Susceptible to Process Variations
    Chien-In Henry Chen ; Yelamarthi, Kumar
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), S. 255-265
    Online unknown
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    CMOS Junctionless Field-Effect Transistors Manufacturing Cost Evaluation
    Wen, Sandy M. ; Chi On Chui
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-02-01), S. 162-168
    Online unknown
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    Mechanical–Electrical Measurements and Relevant Test Structures for Sensing Interconnect Stress Effects in CMOS Technology
    Demange, Nicolas ; Blayac, Sylvain ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), S. 564-570
    Online unknown
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    Shallow Trench Isolation for the 45-nm CMOS Node and Geometry Dependence of STI Stress on CMOS Device Performance
    Bach, Karl-Heinz ; Galiano, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-05-01), S. 59-67
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    Improved Characterization Methodology of Gate-Bulk Leakage and Capacitance for Ultrathin Oxide Partially Depleted SOI Floating-Body CMOS
    Chien, Shan-Chieh ; Lin, Guan-Shyan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), S. 155-161
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    Process Variation-Aware Timing Optimization for Dynamic and Mixed-Static-Dynamic CMOS Logic
    Yelamarthi, Kumar ; Chien-In Henry Chen
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), S. 31-39
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    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability
    Tuinhout, H.P. ; Meijer, Maurice ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), S. 59-65
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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