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  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Accurate statistical process variation analysis for 0.25-μm CMOS with advanced TCAD methodology
    Sato, Hisako ; Mori, K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 11 (1998), S. 575-582
    Online unknown
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    Effect of tilt angle variations in a halo implant on V/sub th/ values for 0.14-μm cmos devices
    Abeln, G.C. ; Santiesteban, R.S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 16 (2003-11-01), S. 653-655
    Online unknown
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    Rapid Resolution of Parametric Failures in the Process Development Period by Integrating Device Physics and Big Data.
    Hashidzume, Takahiko ; Yasui, Takatoshi ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-08-01), Heft 3, S. 352-356
    Online academicJournal
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    Two Transistors Voltage-Measurement-Based Test Structure for Fast MOSFET Device Mismatch Characterization
    Bampi, Sergio ; Brito, Juan P.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 33 (2020-05-01), S. 166-173
    Online unknown
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    Lack of Spatial Correlation in MOSFET Threshold Voltage Variation and Implications for Voltage Scaling
    Chandrakasan, Anantha P. ; Drego, Nigel ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-05-01), S. 245-255
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Variability Modeling and Process Optimization for the 32 nm BEOL Using In-Line Scatterometry Data
    Ogunsola, Oluwafemi O. ; Watts, David K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-05-01), S. 260-268
    Online unknown
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    Test chip for the development and evaluation of sensors for measuring stress in metal interconnects
    TERRY, Jonathan G ; SMITH, Stewart ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 2, S. 255-261
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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