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    Feedforward Run-to-Run Control for Reduced Parametric Transistor Variation in CMOS Logic 0.13 μm Technology
    JEDIDI, Nader ; SALLAGOITY, Pascal ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 24 (2011), Heft 2, S. 273-279
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of -1/+0.8 °C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits : International Conference on Microelectronic Test Structures
    SASAKI, Masahiro ; IKEDA, Makoto ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 21 (2008), Heft 2, S. 201-208
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Enhancement of CMOS performance by process-induced stress : Materials-related manufacturing issues in the nanochip era
    YUHAO, LUO ; NAYAK, Deepak K
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 18 (2005), Heft 1, S. 63-68
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Rigorous Extraction of Process Variations for 65-nm CMOS Design
    WEI, ZHAO ; LIU, Frank ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 22 (2009), Heft 1, S. 196-203
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Metrology challenges for emerging research devices and materials
    GAMER, C. Michael ; VOGEL, Eric M
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 19 (2006), Heft 4, S. 397-403
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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