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    Watermark Detection in CMOS Image Sensors Using Cosine-Convolutional Semantic Networks.
    Solorzano, Carlos ; Tsai, Du-Ming
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-05-01), Heft 2, S. 279-290
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    A Novel Multiscale Residual Aggregation Network-Based Image Super-Resolution Algorithm for Semiconductor Defect Inspection.
    Liu, Yang ; Hu, Lilei ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 37 (2024-02-01), Heft 1, S. 93-102
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Automatic Classification of C-SAM Voids for Root Cause Identification of Bonding Yield Degradation.
    Baderot, Julien ; Garrais, Solange ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-11-01), Heft 4, S. 537-542
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Watermark Detection in CMOS Image Sensors Using Cosine-Convolutional Semantic Networks
    Solorzano, Carlos ; Tsai, Du-Ming
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-05-01), S. 279-290
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
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    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    Chan, Victor ; Cheng, K. ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 32 (2019), Heft 4, S. 393-399
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 32 (2019), Heft 4, S. 393-399
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext
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  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    CMOS-Compatible MESFETs for High Power RF Integrated Circuits
    Mehr, Payam ; Moallemi, Soroush ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 32 (2019), Heft 1, S. 14-22
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Ring oscillators for CMOS process tuning and variability control
    BHUSHAN, Manjul ; GATTIKER, Anne ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 19 (2006), Heft 1, S. 10-18
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    A test structure for contact and via failure analysis in deep-submicrometer CMOS technologies
    CABRINI, Alessandro ; CANTARELLI, Daniele ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 19 (2006), Heft 1, S. 57-66
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Timing Optimization and Noise Tolerance for Dynamic CMOS Susceptible to Process Variations
    YELAMARTHI, Kumar ; HENRY CHEN, Chien-In
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 25 (2012), Heft 2, S. 255-265
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    A Comparative Study of Metamodels for Fast and Accurate Simulation of Nano-CMOS Circuits
    GARITSELOV, Oleg ; MOHANTY, Saraju P ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 25 (2012), Heft 1, S. 26-36
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Low-K/Cu CMOS-based SoC technology with 115-GHz fT, 100-GHz fmax, low noise 80-nm RF CMOS, high-Q MiM capacitor, and spiral cu inductor
    GUO, Jyh-Chyum
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 19 (2006), Heft 3, S. 331-338
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Forecast of CMOS Imagers Yield Learning by the Gompertz Model
    ORGANTINI, Paolo ; RUSSO, Felice
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 26 (2013), Heft 3, S. 393-399
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Feedforward Run-to-Run Control for Reduced Parametric Transistor Variation in CMOS Logic 0.13 μm Technology
    JEDIDI, Nader ; SALLAGOITY, Pascal ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 24 (2011), Heft 2, S. 273-279
    Online academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Visualization and Analysis of Temporal and Steady-State Gas Concentration in Process Chamber Using 70-dB SNR 1000 fps Absorption Imaging System.
    Sakai, Yushi ; Shiba, Yoshinobu ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-11-01), Heft 4, S. 515-519
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Mechanical―Electrical Measurements and Relevant Test Structures for Sensing Interconnect Stress Effects in CMOS Technology : The 2011 International Conference on Microelectronic Test Structures
    BLAYAC, Sylvain ; RIVERO, Christian ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 25 (2012), Heft 4, S. 564-570
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability
    WILS, Nicole ; TUINHOUT, Hans P ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 22 (2009), Heft 1, S. 59-65
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of -1/+0.8 °C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits : International Conference on Microelectronic Test Structures
    SASAKI, Masahiro ; IKEDA, Makoto ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 21 (2008), Heft 2, S. 201-208
    Online academicJournal
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    Volltext
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    Gaul, A. ; Greene, Andrew M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), S. 393-399
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Methodology on extracting compact layout rules for latchup prevention in deep-submicron bulk CMOS technology
    KER, Ming-Dou ; LO, Wen-Yu
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 16 (2003), Heft 2, S. 319-334
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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