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    Process Optimization and Modeling of the Silicon Growth in Trichlorosilane-Hydrogen Gas Mixture in a Planetary CVD Reactor
    Ramadan, Z. ; Im, I. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-02-01), Heft 1, S. 1-8
    Online academicJournal
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    On a More Accurate Assessment of Scaled Copper/Low-k Interconnects Performance
    Travaly, Y. ; Mandeep, B. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-08-01), Heft 3, S. 333-340
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    A Novel Approach to Link Process Parameters to BSIM Model Parameters
    Mande, S. ; Chandorkar, A. N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-11-01), Heft 4, S. 544-551
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Evaluating the impact of process changes on cluster tool performance
    Herrmann, J.W. ; Chandrasekaran, N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 13 (2000-05-01), Heft 2, S. 181-192
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    DOE/Opt: a system for design of experiments, response surface modeling, and optimization using process and device simulation
    Boning, D.S. ; Mozumder, P.K.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 7 (1994-05-01), Heft 2, S. 233-244
    Online academicJournal
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    Volltext
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    The integration of simulation and response surface methodology for the optimization of IC processes
    Gaston, G.J. ; Walton, A.J.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 7 (1994-02-01), Heft 1, S. 22-33
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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