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    Watermark Detection in CMOS Image Sensors Using Cosine-Convolutional Semantic Networks
    Solorzano, C. ; Tsai, D.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 36 (2023-05-01), Heft 2, S. 279-290
    Online academicJournal
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    Yield Learning Methodologies and Failure Isolation in Ring Oscillator Circuit for CMOS Technology Research
    Chan, V. ; Bergendahl, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), Heft 4, S. 393-399
    Online academicJournal
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    CMOS-Compatible MESFETs for High Power RF Integrated Circuits
    Mehr, P. ; Moallemi, S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-02-01), Heft 1, S. 14-22
    Online academicJournal
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    Incorporating Manufacturing Process Variation Awareness in Fast Design Optimization of Nanoscale CMOS VCOs
    Mohanty, S. P. ; Kougianos, E.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 27 (2014-02-01), Heft 1, S. 22-31
    Online academicJournal
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    Forecast of CMOS Imagers Yield Learning by the Gompertz Model
    Organtini, P. ; Russo, F.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-08-01), Heft 3, S. 393-399
    Online academicJournal
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    Timing Optimization and Noise Tolerance for Dynamic CMOS Susceptible to Process Variations
    Yelamarthi, K. ; Chen, C.-I. H.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-05-01), Heft 2, S. 255-265
    Online academicJournal
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    A Comparative Study of Metamodels for Fast and Accurate Simulation of Nano-CMOS Circuits
    Garitselov, O. ; Mohanty, S. P. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-02-01), Heft 1, S. 26-36
    Online academicJournal
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    Shallow Trench Isolation for the 45-nm CMOS Node and Geometry Dependence of STI Stress on CMOS Device Performance
    Tilke, A. T. ; Stapelmann, C. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-05-01), Heft 2, S. 59-67
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Process Variation-Aware Timing Optimization for Dynamic and Mixed-Static-Dynamic CMOS Logic
    Yelamarthi, K. ; Chen, C.-I. H.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), Heft 1, S. 31-39
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Characterization of STI Edge Effects on CMOS Variability
    Wils, N. ; Tuinhout, H. P. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 22 (2009-02-01), Heft 1, S. 59-65
    Online academicJournal
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    Low-K/Cu CMOS-based SoC technology with 115-GHz f/sub T/, 100-GHz f/sub max/, low noise 80-nm RF CMOS, high-Q MiM capacitor, and spiral Cu inductor
    Guo, Jyh-Chyurn
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-08-01), Heft 3, S. 331-338
    Online academicJournal
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    Mechanical–Electrical Measurements and Relevant Test Structures for Sensing Interconnect Stress Effects in CMOS Technology
    Blayac, S. ; Rivero, C. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), Heft 4, S. 564-570
    Online academicJournal
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    A Novel BJT Structure Implemented Using CMOS Processes for High-Performance Analog Circuit Applications
    Jung, Y. J. ; Park, B. S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 25 (2012-11-01), Heft 4, S. 549-554
    Online academicJournal
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    Halo and LDD Engineering for Multiple ${\rm V}_{\rm TH}$ High Performance Analog CMOS Devices
    Guo, J. C.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 20 (2007-08-01), Heft 3, S. 313-322
    Online academicJournal
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    A test structure for contact and via failure analysis in deep-submicrometer CMOS technologies
    Cabrini, A. ; Cantarelli, D. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), Heft 1, S. 57-66
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Ring oscillators for CMOS process tuning and variability control
    Bhushan, M. ; Gattiker, A. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), Heft 1, S. 10-18
    Online academicJournal
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    Analysis on the dependence of layout parameters on ESD robustness of CMOS devices for manufacturing in deep-submicron CMOS process
    Chen, Tung-Yang ; Ker, Ming-Dou
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 16 (2003-08-01), Heft 3, S. 486-500
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    Test Structures for the Characterization of MEMS and CMOS Integration Technology
    Lin, H. ; Walton, A. J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), Heft 2, S. 140-147
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    New Test Structure to Monitor Contact-to-Poly Leakage in Sub-90 nm CMOS Technologies
    King, M. C. ; Chin, A.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), Heft 2, S. 244-247
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    A Temperature Sensor With an Inaccuracy of ${-}{\hbox{1}}/{+}{\hbox{0.8}}\ ^{\circ}$ C Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits
    Sasaki, M. ; Ikeda, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 21 (2008-05-01), Heft 2, S. 201-208
    Online academicJournal
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