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    Influence and Suppression of Harmful Effects Due to By-Product in CVD Reactor for 4H-SiC Epitaxy
    Daigo, Y. ; Watanabe, T. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-08-01), Heft 3, S. 340-345
    Online academicJournal
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    Process Optimization and Modeling of the Silicon Growth in Trichlorosilane-Hydrogen Gas Mixture in a Planetary CVD Reactor
    Ramadan, Z. ; Im, I. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-02-01), Heft 1, S. 1-8
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Pioneering Fast and Safe Low-k Silicon Dioxide Synthesis for Modern Integrated Circuits
    Chow, Y. ; Chao, S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 37 (2024-05-01), Heft 2, S. 185-189
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Modeling of Epitaxial Silicon Growth From the DCS-H2-HCl System in a Large Scale CVD Reactor
    Ramadan, Z. ; Abdelmotalib, H.M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 31 (2018-08-01), Heft 3, S. 363-363
    Online academicJournal
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    Temperature Distribution and Deposition Rate on Semiconductor Wafers in Low-Pressure CVD Equipment Processing Two Wafers
    Watanabe, T. ; Hirasawa, S.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 26 (2013-11-01), Heft 4, S. 572-577
    Online academicJournal
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    Artificial neural-network-based diagnosis of CVD barrel reactor
    Bhatikar, S.R. ; Mahajan, R.L.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 15 (2002-02-01), Heft 1, S. 71-78
    Online academicJournal
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    ${\rm TiCl}_{4}$ Soak on NiSi: Selective Formation of Pure Sub-Nanometer NiTi to Reduce Contact Resistance
    Futase, T. ; Hashikawa, N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 24 (2011-05-01), Heft 2, S. 325-332
    Online academicJournal
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    Fuzzy logic models for thermally based microelectronic manufacturing processes
    Xie, Hong ; Mahajan, R.L. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 8 (1995-08-01), Heft 3, S. 219-227
    Online academicJournal
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    Applied RTP optical modeling: an argument for model-based control
    Yates Sorrell, F. ; Yu, Seungil ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 7 (1994-11-01), Heft 4, S. 454-459
    Online academicJournal
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    Resistance Measurement Platform for Statistical Analysis of Emerging Memory Materials
    Maeda, T. ; Omura, Y. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 33 (2020-05-01), Heft 2, S. 232-239
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Real-time multivariable control of PECVD silicon nitride film properties
    Knight, T.J. ; Greve, D.W. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 10 (1997-02-01), Heft 1, S. 137-146
    Online academicJournal
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    In-situ monitoring of epitaxial film thickness by IEMI
    Yu, F. ; Zhou, Z. H. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 5 (1992-02-01), Heft 1, S. 34-40
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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