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    Mainstreaming SOI CMOS technology
    SHAHIDI, G. G
    In: In-line methods and monitors for process and yield improvement (Santa Clara CA, 22-23 September 1999), 1999, S. 15-21
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Identification of amorphous silicon residues in a low power CMOS technology
    ACOVIC, A ; BUFFAT, P. A ; et al.
    In: In-line methods and monitors for process and yield improvement (Santa Clara CA, 22-23 September 1999), 1999, S. 256-264
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Influence of metal deposition temperature on deep submicrometer metal lithography
    SUBRAMANIAM, V ; SIEMS, D ; et al.
    In: In-line methods and monitors for process and yield improvement (Santa Clara CA, 22-23 September 1999), 1999, S. 298-305
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Defect-free IDDQ with reverse body bias
    XIAOMEI, LIU ; MOURAD, S
    In: In-line methods and monitors for process and yield improvement (Santa Clara CA, 22-23 September 1999), 1999, S. 138-145
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Innovating SRAM design and test program for fast process related defect recognition and failure analysis
    COPPENS, P ; VANHOREBEEK, G ; et al.
    In: In-line methods and monitors for process and yield improvement (Santa Clara CA, 22-23 September 1999), 1999, S. 290-297
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
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