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639 Treffer

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    On the reaction scheme for Ti/TiN chemical vapor deposition (CVD) process using TiCl4
    MICHIZUKI, Y ; OKAMOTO, Y ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 34 (1995), Heft 3A, S. L326- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    ECR plasma CVD in different magnetic field configurations
    MURATA, M ; UCHIDA, S ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 31 (1992), Heft 5A, S. 1499-1502
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Spectroscopic measurements of the production and the transport of CH radicals in a methane plasma used for the CVD of a-C:H
    TACHIBANA, K ; MUKAI, T ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 10, S. 2156-2164
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    ECR plasma CVD using a slotted lisitano coil
    KAWAI, Y ; KOMORI, A ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 11, S. 2487-2490
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Tantalum oxide films formed by UV photo-CVD using ozone and TaCl5
    TANIMOTO, S ; MATSUI, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 3, S. L330- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Applicability of TiN adhesion layer formed by nitridation of sputtered Ti film to blanket CVD-W contact filling
    SHIH-CHANG, CHEN ; SAKAMOTO, A ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 32 (1993), Heft 5A, S. 1929-1933
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Preparation of (Fe/Fe-N)/(Si-O) and (Fe/Fe-N)/(Si-N) multilayered films by sputtering, ECR plasma nitridation and ECR plasma CVD
    ONO, H ; FUJINAGA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 31 (1992), Heft 4, S. 1045-1049
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effects of oxygen addition on diamond film growth by electron-cyclotron-resonance microwave plasma CVD apparatus
    NUNOTANI, M ; KOMORI, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 7A, S. L1199- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Effect of discharge current on the microstructure of diamond films deposited on aluminum substrate at low substrate temperature by DC plasma CVD
    NAKAO, S ; NODA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 1, S. L45- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Energy band model of undoped a-Ge : H prepared by plasma CVD
    NAKASHITA, T ; INOUE, A ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 5, S. 820-823
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Effects of electron and neutron irradiation on the cathodoluminescence of nitrogen-doped CVD diamond
    YOKOTA, Y ; KAWARADA, H ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 12, S. L2232- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Temperature and incident beam-current dependence of dominant free-exciton recombination radiation from high-purity chemical vapor deposition (CVD) diamonds
    YAMAGUCHI, A ; YAMASHITA, S ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 33 (1994), Heft 8A, S. L1063- (3S.)
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Josephson current in microbridges of YBa2Cu3O7-δ thin films prepared by CVD
    YAMASHITA, T ; ERA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 1, S. 74-78
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Fabrication of X-ray mask using W-CVD for forming absorber pattern
    OHTA, T ; KAWAZU, Y ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 10, S. 2195-2198
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Determination of rate controlling step in CVD processes with gas phase and surface reactions
    DESU, S. B ; KALIDINDI, S. R
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 7, S. 1310-1315
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Deposition of diamond onto an aluminum substrate by DC plasma CVD
    NAKAO, S ; NODA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 8, S. 1511-1514
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Top-gate amorphous-silicon thin-film transistors produced by CVD method
    KANOH, H ; YASUKAWA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 12, S. L2366- (4S.)
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Sharp boron spikes in silicon grown at reduced and atmospheric pressure by fast-gas-switching CVD
    VINK, A. T ; ROKSNOER, P. J ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 12, S. L2307- (4S.)
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Purification and UV-VIS light absorption property of source materials for CVD of high-Tc superconducting films
    HASHIMOTO, T ; KITAZAWA, K ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 12, S. L2215- (4S.)
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Plasma CVD-grown 10B-enriched boron films for Si neutron detectors
    SATO, N ; ISHIWATA, O ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 11, S. 2526-2530
    academicJournal
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xs 0 - 576
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xl 1200 - 1366
xxl 1366 -