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    Reaction mechanism of electrochemical-vapor deposition of yttria-stabilized zirconia film
    SASAKI, H ; YAKAWA, C ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 7, S. 4608-4613
    Online academicJournal
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    Low temperature growth of ZnSxSe1-x alloys fabricated by hydrogen radical enhanced chemical vapor deposition in an atomic layer epitaxy mode
    FUJIWARA, H ; GOTOH, J ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 9, S. 5510-5515
    Online academicJournal
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    InxGa(1-x)N/InyGa(1-y)N superlattices grown on GaN films
    NAKAMURA, S ; MUKAI, T ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 6, S. 3911-3915
    Online academicJournal
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    Ferroelectric bismuth titanate films by hot wall metalorganic chemical vapor deposition
    JIE, SI ; DESU, S. B
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 11, S. 7910-7913
    Online academicJournal
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    The interfacial layer formation of the Al2O3/Si structures grown by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition
    KIM, T. W ; KANG, W. N ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 1, S. 760-762
    Online academicJournal
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    Optical emission spectroscopy of ArF-laser-irradiated disilane-acetylene mixtures for 3C-SiC epitaxial growth
    MIZUNAMI, T ; TOYAMA, N ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 4, S. 2024-2026
    Online academicJournal
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    Deposition and surface characterization of high quality single crystal GaN layers
    ASIF KHAN, M ; KUZNIA, J. N ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 73 (1993), Heft 6, S. 3108-3110
    Online academicJournal
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    Thin-film growth and compositional effects in YBa2Cu3O7-x layers prepared by metalorganic chemical vapor deposition
    HUDNER, J ; THOMAS, O ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 7, S. 4631-4642
    Online academicJournal
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    The structural homogeneity of boron carbide thin films fabricated using plasma-enhanced chemical vapor deposition from B5H9+CH4
    SUNWOO, LEE ; MAZUROWSKI, J ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 11, S. 6919-6924
    Online academicJournal
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    On the microstructural, optical, and thermal properties of hydrogenated amorphous carbon films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
    CHOU, L. H ; WANG, H. W
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 7, S. 4673-4680
    Online academicJournal
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    Methyl- and dimethyl-associated paramagnetic centers in SiO2 thin films
    HOINKIS, M ; CROWDER, M. S ; et al.
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 9, S. 5527-5530
    Online academicJournal
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    Effects of strain energy on the preferred orientation of TiN thin films
    OH, U. C ; JUNG HO, JE
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 3, S. 1692-1696
    Online academicJournal
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    Deposition behavior of Pb(ZrxTi1-x)O3 thin films by metalorganic chemical vapor deposition
    JOON-HOO, CHOI ; HO-GI, KIM
    In: Journal of applied physics, Jg. 74 (1993), Heft 10, S. 6413-6417
    Online academicJournal
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