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    Fabrication of multi-layer CVD-SiC films with different microstructures by manipulating the input gas ratio
    OH, J. H ; CHOI, D. J
    In: Journal of materials science letters, Jg. 19 (2000), Heft 22, S. 2043-2046
    Online academicJournal
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    General rule for the determination of c-axis orientation of Pb-based tetragonal ferroelectric oxide film prepared by CVD
    FUNAKUBO, H ; OTSU, M ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 14 (1995), Heft 9, S. 629-632
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    Fluorine-contained films with high water-repellency and transparency prepared by RF plasma-enhanced CVD
    HOZUMI, A ; KAKINOKI, N ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 15 (1996), Heft 8, S. 675-677
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    CVD synthesis of carbon nanotubes
    QIN, L. C
    In: Journal of materials science letters, Jg. 16 (1997), Heft 6, S. 457-459
    Online academicJournal
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Preparation and electrical properties of undoped zinc oxide films by CVD
    OGAWA, M. F ; NATSUME, Y ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 9 (1990), Heft 11, S. 1351-1353
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    General rule for the determination of c-axis orientation of Pb-based tetragonal ferroelectric oxide film prepared by CVD
    Mitzutani, N. ; Funakubo, Hiroshi ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 14 (1995), S. 629-632
    Online unknown
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    Rapid formation of TiO2 films by a conventional CVD method
    Amano, Seiki ; Maruyama, Kazunori ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 9 (1990-03-01), S. 316-319
    Online unknown
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Laser cutting of CVD-SiC fibre/A6061 composite / Coupage laser d'un composite A6061/ fibres de SiC
    KAGAWA, Y ; UTSUNOMIYA, S ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 8 (1989), Heft 6, S. 681-683
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Fluorine-contained films with high water-repellency and transparency prepared by RF plasma-enhanced CVD
    Kakinoki, N. ; Takai, Osamu ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 15 (1996), S. 675-677
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Preparation and electrical properties of undoped zinc oxide films by CVD
    Hirayama, T. ; Ogawa, M. F. ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 9 (1990-11-01), S. 1351-1353
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Optical absorption edge of zinc oxide films by CVD
    Hirayama, T. ; Ogawa, M. F. ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 9 (1990-11-01), S. 1354-1356
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Hydrogen post-etching effect on CVD diamond film
    Uchida, Nozomu ; Saito, Katsuichi ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 9 (1990-03-01), S. 251-252
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Justification of the assumption of transport. by diffusion in the interwafer region of a multiwafer CVD reactor
    Loney, N. W.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 15 (1996), S. 1219-1220
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Thermochemical etching effect on CVD diamond film in an oxygen atmosphere
    Uematsu, Keizo ; Uchida, Nozomu ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 9 (1990-03-01), S. 249-250
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Hybridization between Si3N4 and SiC films by plasma CVD
    Maeda, Yuuji ; Kamata, Kiichiro ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 5 (1986-10-01), S. 1051-1054
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Mechanical properties of ZrO2-toughened Al2O3 ceramics from CVD powders
    Sōmiya, Shigeyuki ; Yoshimura, Masahiro ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 4 (1985-04-01), S. 413-416
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    The effect of substrate materials on the microstructure and phases of silicon carbide prepared by chemical vapour deposition (CVD)
    Kim, Myong-Hyon ; Park, Young-Su ; et al.
    In: Journal of Materials Science Letters, Jg. 8 (1989-03-01), S. 321-325
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Influence of deposition conditions on the growth of diamond films on patterned silicon
    LINJUN, WANG ; YIBEN, XIA ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 22 (2003), Heft 20, S. 1447-1450
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Surface characteristics of MOCVD grown TiO2 films by atomic force microscopy
    PARK, Young-Bae ; AHN, K. H ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 22 (2003), Heft 19, S. 1325-1328
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Blue-emitting CaS:Cu, F phosphor fabricated by thermal incorporation of Cu and F into ALD-grown CaS thin film
    CHOI, S.-H ; PARK, C.-O ; et al.
    In: Journal of materials science letters, Jg. 21 (2002), Heft 24, S. 1947-1950
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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