Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
217 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Verlag

Sprache

217 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    DFT Calculations on Refractive Index Dispersion of Fluoro-compounds in the DUV-UV-Visible Region
    Ando, Shinji
    2006
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Bottom Anti-Reflective Coatings for DUV Lithography
    Pawlowski, Georg ; Tanaka, Hatsuyuki ; et al.
    1997
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    The Frog Prince A Brief Review of DUV Resist Technology
    Lee, DongKwan ; Pawlowski, Georg
    2002
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Novel Analysis of Deblocking Reaction in DUV Resists
    Nakano, Kouji ; Terasaki, Wataru ; et al.
    2000
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    DUV Hardened Layer of Resist Dot Pattern Detected by Tip Indentation Method
    Kawai, Akira ; Kawakami, Yoshiaki
    2001
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Novel Diffusion Analysis in Advanced Chemically Amplified DUV Resists Using Photometric Methods
    Richter, E. ; Sebald, M. ; et al.
    1999
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Deblocking reaction of chemically amplified Positive DUV resists
    Yoshino, Hiroshi ; Tanabe, Hiroyoshi ; et al.
    1999
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Effects of Airborne Molecular Contamination on DUV Photoresists
    Miller, Daniel A. ; Rich, Georgia K. ; et al.
    1997
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Evaluation of a Negative 193nm DUV Resist for the 45 nm Node: Lithography,Degradation Kinetics during Etch and Implant
    May, M. J. ; Derrough, S. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 20 (2007), Heft 3, S. 345-352
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    DFT Calculations on Refractive Index Dispersion of Fluoro-compounds in the DUV-UV-Visible Region
    Ando, S.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 19 (2006), Heft 3, S. 351-360
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Positive-Working DUV Resist Based on Terpene Derivatives as Cross-linker
    Park, C. ; Lee, J. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 15 (2002), Heft 1, S. 141-144
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    The Frog Prince-A Brief Review of DUV Resist Technology
    Lee, D. ; Pawlowski, G.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 15 (2002), Heft 3, S. 427-434
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Novel Analysis of Deblocking Reaction in DUV Resists
    Kameyama, Y. ; Terasaki, W. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 13 (2000), Heft 5, S. 667-672
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Polymers Containing Etch Resistant Ether Protecting Groups for DUV Lithography
    Varanasi, P. R. ; Lawson, M. C. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 13 (2000), Heft 4, S. 645-650
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Bilayer Resists for DUV Lithography
    Tai, M. C. ; Fang, M. C. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 13 (2000), Heft 4, S. 525-530
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Novel Diffusion Analysis in Advanced Chemically Amplified DUV Resists Using Photometric Methods
    Richter, E. ; Hien, S. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 12 (1999), Heft 5, S. 695-710
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Deblocking Reaction of Chemically Amplified Positive DUV Resists
    Yamana, M. ; Itani, T. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 12 (1999), Heft 4, S. 601-606
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Recent Advances in Acetal-Based DUV Resists
    Malik, S. ; Blakeney, A. J. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 12 (1999), Heft 4, S. 591-600
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Divinyloxyalkane Cross-linker on DUV Photoresist
    Watanabe, H. ; Maeshima, K. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 11 (1998), Heft 3, S. 537-540
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Optimization of DUV Negative Resists for 0.15 m̆ Lithography
    Kudo, T. ; Aramaki, K. ; et al.
    In: JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, Jg. 11 (1998), Heft 3, S. 445-454
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -