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    Remote plasma chemical vapour deposition of silicon films at low temperature with H2 and He plasma gases
    PARK, Y.-B ; XIAODONG, LI ; et al.
    In: Journal of physics. D, Applied physics (Print), Jg. 32 (1999), Heft 16, S. 1955-1962
    Online academicJournal
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    Low-temperature atomic layer deposition of MgO thin films on Si
    VANGELISTA, S ; MANTOVAN, R ; et al.
    In: Journal of physics. D, Applied physics (Print), Jg. 46 (2013), Heft 48
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    Low-temperature growth of microcrystalline silicon using 100% SiH4 by rf glow discharge method
    JAYATISSA, A. H ; HATANAKA, Y ; et al.
    In: Journal of physics. D, Applied physics (Print), Jg. 29 (1996), Heft 6, S. 1636-1640
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -