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24 Treffer

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    SOI nanodevices and materials for CMOS ULSI
    Balestra, Francis
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 2
    Online academicJournal
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    Variation Analysis of CMOS Technologies Using Surface-Potential MOSFET Model
    Hans J ̈urgen Mattausch ; Yumisaki, Akihiro ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 4
    Online academicJournal
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    Challenges in scaling of CMOS devices towards 65 nm node
    Jurczak, Małgorzata ; Pollentier, Ivan ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    Ultrathin oxynitride films for CMOS technology
    Beck, Romuald B.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2004-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    A Comparative Study of Single- and Dual-Threshold Voltage SRAM Cells
    Kushwaha, Pragya ; Chaudhry, Amit
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 4
    Online academicJournal
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    Electrical characterization of ISFETs
    Tomaszewsk, Daniel ; Yang, Chia-Ming ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 3
    Online academicJournal
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    The influence of annealing (900◦C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers
    Mroczyński, Robert ; Głuszko, Grzegorz ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 3
    Online academicJournal
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    Applying shallow nitrogen implantation from rf plasma for dual gate oxide technology
    Bieniek, Tomasz ; Beck, Romuald B. ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 3
    Online academicJournal
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    Composition and electrical properties of ultra-thin SiOxNy layers formed by rf plasma nitrogen implantation/plasma oxidation processes
    Bieniek, Tomasz ; Beck, Romuald B. ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 3
    Online academicJournal
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    Low frequency noise in advanced Si bulk and SOI MOSFETs
    Jomaah, Jalal ; Balestra, Francis ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    An accurate prediction of high-frequency circuit behaviour
    Yoshitomi, Sadayuki ; Kimijima, Hideki ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    TSSOI as an efficient tool for diagnostics of SOI technology in Institute of Electron Technology
    Barańsk, Mateusz ; Sapor, Maria ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    Silicon-germanium for ULSI
    Hall, Steve ; Eccleston, Bill
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2000-12-01, Heft 3-4
    Online academicJournal
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    Gate dielectrics: process integration issues and electrical properties
    Schwalke, Udo
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    Process and device requirements for mixed-signal integrated circuits in broadband networking
    Iniewski, Krzysztof ; Syrzycki, Marek ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2004-03-01, Heft 1
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    The influence of yield model parameters on the probability of defect occurrence
    Rakowski, Michał ; Pleskacz, Witold A.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 3
    Online academicJournal
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    Design of a Fractional Order Low-pass Filter Using a Differential Voltage Current Conveyor
    Battula Tirumala Krishna ; Janarthanan, Midhunchakkaravathy
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 2
    Online academicJournal
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    Review and perspective of high-k dielectrics on silicon
    Hall, Stephe ; Buiu, Octavian ; et al.
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 2
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Semiconductor cleaning technology for next generation material systems
    Ruzyllo, Jerzy
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 2
    Online academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Large-Signal RF Modeling with the EKV3 MOSFET Model
    Chalkiadaki, Maria-Anna ; Bucher, Matthias
    In: Journal of Telecommunications and Information Technology, 2023-06-01, Heft 1
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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