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    Crystallization of amorphous silicon thin films using a viscous nickel solution
    JIN HYUNG, AHN ; BYUNG TAE, AHN
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 148 (2001), Heft 9, S. H115- (5S.)
    academicJournal
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    Growth and characterization of an In-based buffer layer by CBD for Cu(In, Ga)Se2 solar cells
    LARINA, Liudmila ; KI HWAN, KIM ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 12, S. C789- (4S.)
    academicJournal
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    Characterization of Sr-doped LaCoO3-YSZ composites prepared by impregnation methods
    YINGYI, HUANG ; KIPYUNG, AHN ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 10, S. A1592- (6S.)
    academicJournal
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    Physical and electrical properties of W/WNx/Poly-Si1-xGex (x = 0, 0.2, 0.6) gates stack with post-thermal process
    KANG, S.-K ; MIN, B. G ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 1, S. G71- (5S.)
    academicJournal
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    Nanocrystalline and thin film germanium electrodes with high lithium capacity and high rate capabilities
    GRAETZ, J ; AHN, C. C ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 5, S. A698- (5S.)
    academicJournal
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    Effects of water removal on the performance degradation of PEMFCs repetitively brought to <0°C
    CHO, Eunae ; KO, Jae-Joon ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 5, S. A661- (5S.)
    academicJournal
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    Effects of nanosized adsorbing material on electrochemical properties of sulfur cathodes for Li/S secondary batteries
    SONG, Min-Sang ; HAN, Sang-Cheol ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 6, S. A791- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effect of boron dose and post-thermal budget on electrical properties of MOS-capacitors with a W/WNx/poly-Sr1-xGex gate stack
    KANG, Sung-Kwan ; BYOUNG GI, MIN ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 1, S. G67- (4S.)
    academicJournal
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    Fabrication of High-Quality Polycrystalline Silicon Film by Crystallization of Amorphous Silicon Film Using AlCl3 Vapor for Thin Film Transistors.
    Ahn, Kyung Min ; Kang, Seung Mo ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 158 (2011-04-01), Heft 4, S. H374- (5S.)
    academicJournal
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    Silicon Epitaxial Growth on Poly-Si Film by HWCVD for Low-Temperature Poly-Si TFTs.
    Lee, Seung Ryul ; Ahn, Kyung Min ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 154 (2007-01-09), Heft 9, S. H778- (4S.)
    academicJournal
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    Photoluminescence properties of Eu3+-activated Y2GeO5 phosphors
    JOUNG KYU, PARK ; JOONG IN, AHN ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), Heft 8, S. H187- (5S.)
    academicJournal
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    Characteristics of the PEMFC repetitively brought to temperatures below 0°C
    CHO, Eunae ; KO, Jae-Joon ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), Heft 12, S. A1667- (4S.)
    academicJournal
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    Time-zero failure current measurement for early monitoring of defective metal lines at wafer level
    JONG HO, PARK ; BYUNG TAE, AHN
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), Heft 1, S. G6- (4S.)
    academicJournal
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    Properties of polycrystalline Si1-xGex films grown by ultrahigh vacuum CVD using Si2H6 and GeH4
    KANG, S.-K ; KIM, J. J ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 150 (2003), Heft 3, S. G167- (6S.)
    academicJournal
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    The 3-phenyl-1,4,2-dioxazol-5-one (PDO) Electrolyte Additive for Li(Ni0.6Mn0.2Co0.2)O2 and Li(Ni0.8Mn0.1Co0.1)O2 Lithium-Ion Cells
    Ouyang, Dongxu ; Song, Wentao ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 169 (2022-04-01), S. 040565-40565
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
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    Microstructural Evolution of Polycrystalline Si Films during Ni-Silicide-Mediated Lateral Crystallization.
    Ahn, Jin Hyung ; Eom, Ji Hye ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004-01-06), Heft 6, S. H141- (4S.)
    academicJournal
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    Improved morphological stability of CoSi2 layer by in situ growth on polycrystalline silicon using reactive chemical vapor deposition
    HEUI SEUNG, LEE ; HWA SUNG, RHEE ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), Heft 1, S. G16- (5S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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