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    Development of a Bilayer Metallization for RIT's Existing CMOS Process
    Nguyen, Anthony
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2006
    Online academicJournal
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    Design and Analysis of a CMOS Based MEMS Accelerometer
    Zeleznik, Matthew A
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2001
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Investigation of Silicon Etching Effects for Monolithic Integration of MEMS with CMOS
    Daniello, Matthew J
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2000
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Optically Injected Circuits in a 0.18 μm CMOS
    Ardault, Gregory
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2003
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Integration of SiGe Resonant Interband tunneling Diodes with RIT CMOS
    Vachranukunkiet, Petya
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1999
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Fabrication of Interdiffused Dual work Function Metal Gate CMOS Capacitors
    Meagher, Michael
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2002
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Incorporation of SPC Charts into MESA for the Subμ-CMOS Process
    Sachdeva, Kautilya
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2002
    Online academicJournal
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    Volltext
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    SIMOX CMOS Process Design and Fabrication
    Phillips, Andrew
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1998
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Monolithic Integration of MEMs Structures and CMOS Circuitry
    Torrejon, Alfredo
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1998
    Online academicJournal
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    Volltext
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    Twin-Well CMOS Integration
    Gendron, Kenneth A
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1997
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Process Design, Development, Fabrication and Verification of a CMOS Technology for RIT
    Hebding, Jeremiah L
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2003
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Fabrication of Twin-well CMOS
    Phan, Linh V
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1997
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Formation of Sidewall Spacers and Titanium Salicide for RIT's Sub-micron CMOS
    Bhaskaran, S K
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1996
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Bipolar Device Fabrication Using RIT's CMOS Technology to Develop a BICMOS Process
    Ternullo, Luigi, Jr
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1991
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    BiCMOS vs CMOS at RIT
    Raif, Anatole
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 1991
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Design of VCOs in Global Foundries 28 nm HPP CMOS
    Jorgensen, Evan
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2015
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Gate Oxide Characterizations for Non-Planar CMOS
    Tabakman, Keith H
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2003
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Fabrication of Thermally Actuated Micromirror Using CMOS Compatible Surface MEMs Process with XeF2 Release Etch
    Shea, Christopher G
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2008
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Development of Thin Gate Oxides for Advanced CMOS Applications
    Mann, Bryant
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2004
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Study of Nickel Silicide Processes for Advanced CMOS Applications
    Curanovic, Branislav
    In: Journal of the Microelectronic Engineering Conference, 2003
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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