Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
25 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Art der Quelle

Schlagwort

Sprache

25 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Surface treatment of carbon nanotube cathodes with glass fillers using KrF excimer laser for field-emission displays.
    Honda, T. ; Oh, C. B. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 24 (2006-03-01), Heft 2, S. 1013-1016
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Fabrication of crystalline Si spheres with atomic-scale surface smoothness using homogenized KrF excimer laser reformation system.
    Hung, Shih-Che ; Shiu, Shu-Chia ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 27 (2009-05-01), Heft 3, S. 1156-1160
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Effective energy densities in KrF excimer laser reformation as a sidewall smoothing technique.
    Liang, Eih-Zhe ; Hung, Shih-Che ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 26 (2008), Heft 1, S. 110-116
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    KrF laser surface treatment of carbon nanotube cathodes with and without reactive ion etching.
    Ohsumi, K. ; Honda, T. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 25 (2007-03-01), Heft 2, S. 557-560
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Effects of KrF (248 nm) excimer laser irradiation on electrical and optical properties of GaN:Mg.
    Kim, Dong-Joon ; Kim, Hyun-Min ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 21 (2003-03-01), Heft 2, S. 641-644
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Positive resist for KrF excimer laser lithography.
    Park, S. J. ; Kim, I. H. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 20 (2002-09-01), Heft 5, S. 2108-2112
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    GaN ablation etching by simultaneous irradiation with F<subscript>2</subscript> laser and KrF excimer laser.
    Akane, Toshimitsu ; Sugioka, Koji ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 19 (2001-07-01), Heft 4, S. 1388-1391
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Optimized bilayer hexamethyldisiloxane film as bottom antireflective coating for both KrF and ArF lithographies.
    Lin, C. H. ; Wang, L. A. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 18 (2000-11-01), Heft 6, S. 3323-3327
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Double-layer inorganic antireflective system for KrF lithography.
    Xu, Min ; Ko, Tze-Man
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 18 (2000), Heft 1, S. 127-135
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Application of a thin-resist process for KrF imaging to 130 nm device fabrication.
    Azuma, Tsukasa ; Chiba, Kenji ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 17 (1999-11-01), Heft 6, S. 2519-2523
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Sub-100 nm KrF lithography for complementary metal-oxide-semiconductor circuits.
    Fritze, M. ; Astolfi, D. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 17 (1999-03-01), Heft 2, S. 345-349
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    0.18 μm KrF lithography using optical proximity correction based on empirical behavior modeling.
    Tritchkov, Alexander ; Stirniman, John ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 16 (1998-11-01), Heft 6, S. 3398-3404
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Resist design for resolution limit of KrF imaging towards 130 nm lithography.
    Azuma, T. ; Kawamura, D. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 16 (1998-11-01), Heft 6, S. 3734-3738
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    KrF laser epitaxy of silicon germanium alloy layers by irradiation of Si<subscript>(1-x)</subscript>Ge<subscript>x</subscript>/Si (100) structures.
    Larciprete, R. ; Grimaldi, M. G. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 16 (1998-05-01), Heft 3, S. 1589-1594
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Viability of conventional KrF imaging for 150 nm lithography.
    Azuma, T. ; Matsunaga, K. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 15 (1997-11-01), Heft 6, S. 2434-2438
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Effect of gaseous permeability of overcoat layer on KrF chemically amplified positive resists.
    Kishimura, S. ; Sakai, J. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 14 (1996-11-01), Heft 6, S. 4234-4238
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Performance of 0.2 μm optical lithography using KrF and ArF excimer laser sources.
    Yamashita, Kazuhiro ; Endo, Masayuki ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 11 (1993-11-01), Heft 6, S. 2692-2696
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Nonalloy Ohmic contact fabrication in a hydrothermally grown n-ZnO (0001) substrate by KrF excimer laser irradiation.
    Akane, Toshimitsu ; Sugioka, Koji ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 18 (2000-05-01), Heft 3, S. 1406-1408
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Effect of aging on field emission lifetime for carbon nanotube cathodes.
    Oki, H. ; Kinoshita, A. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 27 (2009-03-01), Heft 2, S. 761-765
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Decomposition of catechol and carbonaceous residues on TiO<subscript>2</subscript>(110): A model system for cleaning of extreme ultraviolet lithography optics.
    Jacobson, Peter ; Li, Shao-Chun ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures, Jg. 26 (2008-11-01), Heft 6, S. 2236-2240
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -