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    Characterization of Ru thin films from a novel CVD/atomic layer deposition precursor 'Rudense' for capping layer of Cu interconnects
    Oike, Hiroyuki ; Chiba, Hirokazu ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 33 (2015), S. 01A133
    Online unknown
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    Toroidal plasma enhanced CVD of diamond films
    Basnett Andrew Francis ; Basnett, Robert J. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 32 (2014-09-01), S. 050605-50605
    Online unknown
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    Low-temperature CVD of iron, cobalt, and nickel nitride thin films from bis[di(tert-butyl)amido]metal(II) precursors and ammonia
    Davis, Luke M. ; Abelson, John R. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 32 (2014-03-01), S. 020606-20606
    Online unknown
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    Low-temperature CVD of η-Mn3N2−xfrom bis[di(tert-butyl)amido]manganese(II) and ammonia
    Spicer, Teresa S. ; Abelson, John R. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 31 (2013-05-01), S. 030604-30604
    Online unknown
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    Remote plasma enhanced CVD deposition of silicon nitride and oxide for gate insulators in (In, Ga)As FET devices
    Markunas, Robert J. ; Richard, P. D. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 3 (1985-05-01), S. 867-872
    Online unknown
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    Summary Abstract: Permeation of hydrogen through CVD silicon carbide
    Sinharoy, S. ; Lange, W. J.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 2 (1984-04-01), S. 636-637
    Online unknown
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    W chemical-vapor deposition using (i-C3H7C5H4)2WH2
    Ohshita, Yoshio ; Imai, Satoshi ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 26 (2008-07-01), S. 561-564
    Online unknown
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    Rate equation analysis of hydrogen uptake on Si (100) surfaces
    Inanaga, S. ; Khanom, F. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 23 (2005-09-01), S. 1471-1478
    Online unknown
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    ZnO synthesis by high vacuum plasma-assisted chemical vapor deposition using dimethylzinc and atomic oxygen
    Wolden, Colin A. ; Hand, Steve ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 22 (2004-09-01), S. 2118-2125
    Online unknown
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    Growth of chemical vapor deposition aluminum titanate films at different CO2/H2 and aluminum butoxide inputs
    Shueh, Cheng-Nan ; Kuo, Dong-Hau
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 22 (2004), S. 151-157
    Online unknown
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    X-ray photoelectron spectroscopic characterization of the adhesion behavior of chemical vapor deposited copper films
    Young Suk Kim ; Shimogaki, Yukihiro
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 19 (2001-09-01), S. 2642-2651
    Online unknown
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    Epitaxial growth of cubic SiC thin films on silicon using single molecular precursors by metalorganic chemical vapor deposition
    Yu, K.-S. ; Kim, Young-Wook ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 19 (2001-07-01), S. 1887-1893
    Online unknown
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    The application ofin situmonitor of extremely rarefied particle clouds grown thermally above wafers by using laser light scattering method to the development of the mass-production condition of the tungsten thermal chemical vapor deposition
    Ito, Natsuko ; Uesugi, Fumihiko ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 19 (2001-07-01), S. 1248-1254
    Online unknown
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    Investigation of polycrystalline silicon grain structure with single wafer chemical vapor deposition technique
    Wang, S. ; Sanchez, E. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 19 (2001-07-01), S. 1898-1901
    Online unknown
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    Chemical vapor deposition of MnxNy films from bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidido)manganese(II) and ammonia
    Mohimi, Elham ; Babar, Shaista ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 34 (2016-11-01), S. 060603-60603
    Online unknown
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    Characterization of thin film deposits on tungsten filaments in catalytic chemical vapor deposition using 1,1-dimethylsilacyclobutane
    Shi, Yujun ; Mulmi, Suresh ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 34 (2016-09-01), S. 051517-51517
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    Study on the characteristics of TiN thin film deposited by the atomic layer chemical vapor deposition method
    Kim, Deok-Soo ; Lee, June-Woo ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 18 (2000-07-01), S. 1595-1598
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Precursor chemistry and film growth with (methylcyclopentadienyl) (1,5-cyclooctadiene)iridium
    Mettlach, N. ; Yan, X.-M. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 18 (2000), S. 10-16
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    Investigation on multilayered chemical vapor deposited Ti/TiN films as the diffusion barriers in Cu and Al metallization
    Chen, S. Y. ; Chang, Ting-Chang ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 17 (1999-07-01), S. 2389-2393
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    Improvement of morphological stability of Ag thin film on a TiN layer with a thin interposing metal layer
    Peng, Y. C. ; Hong, C. Y. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 17 (1999-07-01), S. 1911-1915
    Online unknown
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