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    CMOS-Compatible Ultrathin Superconducting NbN Thin Films Deposited by Reactive Ion Sputtering on 300 mm Si Wafer.
    Yang, Z ; Wei, X ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 16 (2023-11-30), Heft 23
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    π-Shape ESD Protection Design for Multi-Gbps High-Speed Circuits in CMOS Technology.
    Chang, CR ; Dai, ZJ ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 16 (2023-03-23), Heft 7
    Online academicJournal
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    A Novel Terahertz Detector Based on Asymmetrical FET Array in 55-nm Standard CMOS Process.
    Liu, Y ; Zhang, X ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 15 (2022-09-22), Heft 19
    Online academicJournal
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    Precise Deposition of Carbon Nanotube Bundles by Inkjet-Printing on a CMOS-Compatible Platform.
    Singh, RS ; Takagi, K ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 15 (2022-07-15), Heft 14
    Online academicJournal
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    Memristive and CMOS Devices for Neuromorphic Computing.
    Milo, V ; Malavena, G ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 13 (2020), Heft 1
    Online academicJournal
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    Neuromorphic Spiking Neural Networks and Their Memristor-CMOS Hardware Implementations.
    Camuñas-Mesa, LA ; Linares-Barranco, B ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-08-27), Heft 17
    Online academicJournal
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    Characteristic Fluctuations of Dynamic Power Delay Induced by Random Nanosized Titanium Nitride Grains and the Aspect Ratio Effect of Gate-All-Around Nanowire CMOS Devices and Circuits.
    Li, Y ; Chen, CY ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-05-08), Heft 9
    Online academicJournal
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    Memristor-CMOS Hybrid Circuit for Temporal-Pooling of Sensory and Hippocampal Responses of Cortical Neurons.
    Nguyen, TV ; Pham, KV ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-03-15), Heft 6
    Online academicJournal
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    Highly Selective CMOS-Compatible Mid-Infrared Thermal Emitter/Detector Slab Design Using Optical Tamm-States.
    Pühringer, G ; Jakoby, B
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-03-20), Heft 6
    Online academicJournal
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    Stable Logic Operation of Fiber-Based Single-Walled Carbon Nanotube Transistor Circuits Toward Thread-Like CMOS Circuitry.
    Heo, JS ; Kim, KT ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 11 (2018-10-01), Heft 10
    Online academicJournal
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    CMOS-Compatible Silicon Nanowire Field-Effect Transistor Biosensor: Technology Development toward Commercialization.
    Tran, DP ; Pham, TTT ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 11 (2018-05-11), Heft 5
    Online academicJournal
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    Lanthanum Gadolinium Oxide: A New Electronic Device Material for CMOS Logic and Memory Devices.
    Pavunny, SP ; Scott, JF ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 7 (2014-03-31), Heft 4, S. 2669-2696
    Online academicJournal
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    Optical and Electric Multifunctional CMOS Image Sensors for On-Chip Biosensing Applications.
    Tokuda, T ; Noda, T ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 4 (2010-12-29), Heft 1, S. 84-102
    Online academicJournal
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    Comprehensive Study of Lanthanum Aluminate High-Dielectric-Constant Gate Oxides for Advanced CMOS Devices.
    Suzuki, M
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 5 (2012-03-14), Heft 3, S. 443-477
    Online academicJournal
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    The Combined Spectral Response of a MEMS Metamaterial Absorber for the Mid-IR and Its Sub-Wavelength Fabrication Residual Array of Holes.
    Wolffenbuttel, RF ; Ghaderi, MA
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 16 (2023-06-09), Heft 12
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    Dual-Step Selective Homoepitaxy of Ge with Low Defect Density and Modulated Strain Based on Optimized Ge/Si Virtual Substrate.
    Xu, B ; Du, Y ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 15 (2022-05-18), Heft 10
    Online academicJournal
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    On the Response of a Micro Non-Destructive Testing X-ray Detector.
    Linardatos, D ; Koukou, V ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 14 (2021-02-13), Heft 4
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    Thermo-Electro-Mechanical Simulation of Semiconductor Metal Oxide Gas Sensors.
    Filipovic, L ; Selberherr, S
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-07-28), Heft 15
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    Hybrid Circuit of Memristor and Complementary Metal-Oxide-Semiconductor for Defect-Tolerant Spatial Pooling with Boost-Factor Adjustment.
    Nguyen, TV ; Pham, KV ; et al.
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 12 (2019-07-01), Heft 13
    Online academicJournal
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    Emerging Applications for High K Materials in VLSI Technology.
    Clark, RD
    In: Materials (Basel, Switzerland), Jg. 7 (2014-04-10), Heft 4, S. 2913-2944
    Online academicJournal
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