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    Trends in CMOS technology and application development
    NING, T. H
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 50 (1997), Heft 3, S. 261-265
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Silicides and ohmic contacts
    GAMBINO, J. P ; COLGAN, E. G
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 52 (1998), Heft 2, S. 99-146
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    FEOL technology trend
    YUAN, TAUR ; NING, T. H
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 52 (1998), Heft 3, S. 191-199
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Microelectronics packaging: present and future
    HO-MING, TONG
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 40 (1995), Heft 3, S. 147-161
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Corrosion inhibition of mild steel in acid solutions by some aromatic oxadiazoles
    QURAISHI, M. A ; SARDAR, R
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 78 (2003), Heft 2, S. 425-431
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Buried oxide formation by plasma immersion ion implantation
    MIN, J ; CHU, P. K ; et al.
    In: Materials chemistry and physics, Jg. 40 (1995), Heft 3, S. 219-222
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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