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    Characterization and integration of a CVD porous SiOCH (k < 2.5) with enhanced mechanical properties for 65 nm CMOS interconnects and below
    CHAPELON, L. L ; AURAL, V ; et al.
    In: Materials for Advanced Metallization, MAM 2004. Proceedings of the European Workshop on Materials for Advanced Metallization 2004, Brussels, Belgium, March 7-10, Jg. 76 (2004), Heft 1-4, S. 1-7
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The novel use of low temperature hydrogenated microcrystalline silicon germanium (μcSiGe:H) for MEMS applications
    GROMOVA, M ; BAERT, K ; et al.
    In: Materials for Advanced Metallization, MAM 2004. Proceedings of the European Workshop on Materials for Advanced Metallization 2004, Brussels, Belgium, March 7-10, Jg. 76 (2004), Heft 1-4, S. 266-271
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -