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    Post Si CMOS Graphene Nanoelectronics Technologies : Electrochemical Society
    Sung, C.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1189-2126
    Online Konferenz
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    The Effects of Fabrication Process on the Performance of a CMOS Based Capacitive Humidity Sensor : Electrochemical Society
    Saeidi, N. ; Blake, A. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 2064-2064
    Online Konferenz
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    Low Stress In situ Boron Doped Poly SiGe Layers for MEMS Modular Integration with CMOS : Electrochemical Society
    Kazmi, S. ; Aarnink, T. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 2058-2058
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    Hybrid Backside Illuminated CMOS Imager for High-End Applications : Electrochemical Society
    De Vos, J. ; De Munck, K. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 2059-2059
    Online Konferenz
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    Performance of Ultra-Low-Power SOI CMOS Diodes Operating at Low Temperatures : Electrochemical Society
    de Souza, M. ; Rue, B. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 1460-1460
    Online Konferenz
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    Radiation-Induced Pulse Noise in SOI CMOS Logic : Electrochemical Society
    Kobayashi, D. ; Hirose, K. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 1442-1442
    Online Konferenz
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    New Capacitorless Dynamic Memory Compatible with SOI and Bulk CMOS : Electrochemical Society
    Rodriguez, N. ; Gamiz, F. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 1441-1441
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
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    SOI Global-Shutter Sample-and-Hold Circuit for Image Sensors Compared to Bulk CMOS and nMOS : Electrochemical Society
    Madeira, F. ; Stolf, R. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. CONF 219 (2011), S. 1430-1430
    Online Konferenz
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    Context Dependence Effects in Si/SiON Based Advanced CMOS Devices : Electrochemical Society
    Olubuyide, O.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1350-1350
    Online Konferenz
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    Recent Findings in Electrical Behavior of CMOS High-K Dielectric/Metal Gate Stacks : Electrochemical Society
    Ghibaudo, G. ; Coignus, J. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1366-1366
    Online Konferenz
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Intrinsic Variablity and Reliability in Nano-CMOS : Electrochemical Society
    Cao, Y. ; Velamala, J. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1353-1353
    Online Konferenz
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    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Realization of Silicon-Nanodots-Based CMOS Backend-Compatible Electrical SPP Source : Electrochemical Society
    Brunets, I. ; Walters, R. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1266-1266
    Online Konferenz
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Recent Progress of Ge Technology for a Post-Si CMOS : Electrochemical Society
    Toriumi, A. ; Lee, C. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1219-1219
    Online Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Prospective and Critical Issues of III-V/Ge CMOS on Si Platform : Electrochemical Society
    Takagi, S. ; Takenaka, M.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1213-1213
    Online Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    CMOS Scaling with III-V Channels for Improved Performance and Low Power : Electrochemical Society
    Hill, R. ; Oh, J. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 2127-2127
    Online Konferenz
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    CMOS - MEMS Integration : Electrochemical Society
    Fedder, G.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1158-1158
    Online Konferenz
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    Band-Edge Effective Work Functions by Controlling HfO~2/TiN Interfacial Composition for Gate-Last CMOS : Electrochemical Society
    Hinkle, C. ; Galatage, R. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1143-1143
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    Si CMOS Contacts to III-V Materials for Monolithic Integration of III-V and Si Devices : Electrochemical Society
    Pacella, N. ; Bulsara, M. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1136-1136
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    Progress, Opportunities and Challenges for beyond CMOS Information Processing Technologies : Electrochemical Society
    Bourianoff, G. ; Nikonov, D.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 1123-1123
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    Electrochemical Performance and H~2S Poisoning Study of Mo-Doped Ceria (CMO) SOFC Anodes : Electrochemical Society
    Mirfakhraei, B. ; Birss, V. ; et al.
    In: MEETING ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY- ALL DIVISIONS-, Jg. Conf 219 (2011), S. 805-805
    Online Konferenz
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