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    A hybrid CMOS-SET co-fabrication platform using nano-grain polysilicon wires
    ECOFFEY, S ; POTT, V ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 239-243
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Phase shifted addressing using a spatial light modulator
    LJUNGBLAD, Ulric ; MARTINSSON, Hans ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 398-403
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    New salicidation technology PtSi for strained SiGe device
    RONG, B ; ZIJLSTRA, T ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 319-323
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Fabrication of ultra-thin-film SOI transistors using the recessed channel concept
    DREESKORNFELD, L ; HARTWICH, J ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 224-228
    Konferenz
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    Comparative study of calixarene and HSQ resist systems for the fabrication of sub-20 nm MOSFET device demonstrators
    KRETZ, J ; DREESKORNFELD, L ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 479-483
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
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